ICC2 菜单说明 - 技术栈

菜单选项	快捷键	功能说明
Open Block...	`Ctrl+O`	打开已存在的设计 Block（布局布线工程单元），载入布局、布线、约束、时序数据
Save Block...	`Ctrl+S`	保存当前 Block 所有修改（布局、布线、ECO、约束等），后端迭代修改频繁保存防文件损坏
Close Block	---	关闭当前打开的设计模块，清空画布，不退出 ICC2 软件

1.2 Library 库相关操作

Setup Library... 配置参考库路径：设置标准单元库、IO 库、Macro IP 库路径，工具读取单元版图、时序、物理属性的前提步骤。
Create Library... 新建 Milkyway 物理库，新建工程第一步，用于存放当前设计的 Block 数据。
Open Library... 打开已有 Milkyway 库，浏览库内所有 Block。
Close Library 关闭当前加载的物理库。
Library Manager 库管理器可视化界面，图形化浏览库、创建 / 删除 / 重命名 Block、查看版本信息。

1.3 Hierarchy 层次子菜单

对层次化设计进行操作：展开 / 收拢模块实例、打散层次、创建子模块、扁平化设计、提取子单元等，多用于分模块布局、层次化管理大型芯片设计。

1.4 脚本与全局配置

Execute Script... 手动选择执行 .tcl 脚本文件，批量自动化执行布局布线命令，是后端批量迭代、流程自动化核心入口。
Application Options ICC2 全局软件参数配置：界面显示、默认格点、撤销步数、颜色主题、日志输出、鼠标操作模式、工艺层显示设置等。

1.5 截图、打印输出

Save Screenshot... 对当前版图画布截图保存，用于写报告、文档、方案汇报。
Print... 打印版图视图，工程极少使用。

1.6 界面关闭 & 程序退出

Close GUI 关闭图形界面窗口，仅保留后台 ICC2 命令行模式运行，节省内存资源。
Exit 完全退出 ICC2 软件，退出前建议先 Save Block 避免数据丢失。

2. Task

Task 菜单是 ICC2 数字后端完整布局布线流程分阶段入口 ，对应芯片从新建设计到最终验证的全流程步骤，Task Assistant(F4)是总控制面板，下面逐条释义工程用途：

流程总助手面板，可视化展示当前设计所处阶段、各步骤完成状态、未完成检查项、一键跳转对应流程操作界面，是后端 GUI 模式最核心的流程导航工具。

Create Block 新建设计模块，初始化 Milkyway Block、导入网表、读入约束 SDC、绑定工艺库，是整个布局布线项目的起始步骤。

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| 和import design 功能一样，主要的功能是读入lef、tlef文件，网表等文件信息， |
Design Planning（已勾选，代表当前阶段已完成） 布局规划阶段：定义芯片 Die 面积、IO 摆放、宏单元 (Macro/IP) 摆放、电源规划 (Power Ring/Power Stripe)、分区划分、布线拥堵预判，决定芯片整体框架。
Custom Routing 定制化手动布线：针对关键信号线、差分信号、模拟敏感走线、时钟预布线、总线做优先级手动布线，规避自动布线串扰与时序问题。
++Timing 时序分析与优化入口：全局时序预估、建立 / 保持时间检查、时序违例修复、时序约束调试、多模式多角 (MMMC) 配置。++
++Placement 标准单元布局：自动摆放逻辑门单元、单元密度优化、拥挤度修复、单元打散、冗余单元清理、布局合规性检查。++
++Clock Tree（CTS 时钟树综合） 时钟树综合流程：创建平衡时钟树、时钟偏斜 (skew) 优化、插入缓冲器、时钟门控优化、时钟 DRC 与时序收敛。++
Routing 全局 + 详细自动布线：全局布线规划走线通道、详细布线完成金属与通孔连接、布线 DRC 修复、走线长度匹配、串扰抑制。
ECO 工程变更修改：门级增删替换、引脚重连、逻辑小修改，在不改顶层网表前提下修复时序、功能缺陷，流片前改版常用。
IC Validator In-Design 版图在线一致性检查：实时预检 LVS 开路 / 短路、器件匹配、版图与网表一致性问题，提前发现错误，避免最终 LVS 大面积报错。
Rail（IR 压降 / 电源完整性分析） 电源网络分析：静态 / 动态 IR 压降分析、电迁移 EM 检查、电源网格优化、功耗密度分析，保证供电稳定性。
Split Constraints 约束拆分管理：对复杂多场景、多模式约束进行拆分、分组、增量加载，优化超大设计约束解析速度，便于分时序场景调试。
3DIC 三维集成电路设计专用流程：堆叠芯片、TSV 通孔管理、层间绑定、跨 Die 布局布线、3D 功耗与时序协同分析，适用于先进封装 / 3D 堆叠项目。

3. Edit 菜单

ICC2 是数字 IC 后端布局布线工具，Edit 菜单是版图 / 布线 / 单元最常用编辑入口，下面逐条带快捷键、中文释义、工程用途说明：

3.1 撤销 / 重做基础操作

菜单选项	快捷键	功能说明
Undo	`Ctrl+Z`	撤销上一步编辑操作，ICC 有撤销步数上限，批量修改前建议保存
Redo	`Ctrl+Y`	恢复被撤销的操作

3.2 布线编辑专用工具（绕线优化核心）

Area Push 框选一片区域，推动区域内金属线、通孔整体避让拥挤区域，解决局部布线拥塞、DRC 线间距违规。
Quick Connect Shift+U 快速互连：选中两个 Pin / 端口一键自动生成最短连接线，快速补零散短线。
Spread Wires 散开并排密集走线，自动拉开同层平行金属间距，修复线间距 DRC、降低串扰。
Stretch Connected Shift+W 拉伸走线，保持两端连接关系不变；移动走线拐点时，两端不会断开，布线修改高频工具。

Route Utilities（子菜单）：各类高级布线修补、绕线规则微调工具集合

3.3 基础复制剪切删除类

菜单选项	快捷键	功能说明
Add	---	手动添加版图图形（矩形、路径、通孔、金属块、Pin 形状等）
Copy	`C`	复制选中单元、走线、版图图形，粘贴到目标位置
Cut	`X`	剪切选中对象（剪贴板暂存，原对象移除）
Cut by Locked object	---	以锁定图形为边界，裁剪切割选中走线 / 版图
Delete	`D`	删除选中的单元、金属、通孔、图形
Delete Disconnected	`Shift+D`	一键删除浮空、无网络连接的零散金属线段、残线，清理冗余布线

Hierarchy（子菜单）：层次化设计操作（展开 / 收拢模块、打散层次、创建分组单元）

3.4、阵列、图形合并、移动类

Macro Array 宏单元（RAM/ROM/IP）阵列排布，批量对齐摆放同规格存储 IP，多用于存储块布局规划。
Merge Shapes Shift+M 合并同层相邻重叠金属多边形，消除冗余内边、简化版图形状，减少 DRC 检查报错。
Move M 自由移动选中单元、走线、版图图形基础移动命令。
Move Pin Connection 单独挪动端口 (Pin) 引出线端点，不移动单元本体，微调引脚出线方向。

Set Object Shape（子菜单）：修改图形圆角、切角、多边形顶点编辑等形状编辑功能

3.5 捕捉、切割、拉伸、互换

Snap 吸附对齐：开启端点、格点、走线边缘、单元边界自动吸附，保证版图对齐规整。
Split Shift+L 切割走线 / 多边形：在指定位置把一根金属线截断成两段，修改走线常用。
Stretch S 普通拉伸：框选局部顶点拉伸图形 / 走线；和 Shift+W 区别：拉伸容易扯断两端连线。
Swap 互换两个单元位置（同类型门单元、寄存器互换，用于时序优化、引脚交换降绕线长度）

3.6 对齐、缩放旋转、工具箱

Editor Toolbox：调出自定义绘图编辑工具箱，集中摆放常用画图指令
Align（子菜单）：批量左 / 右 / 上 / 下对齐、居中对齐、等间距均分排布单元 / 走线
Expand（子菜单）：整体放大 / 收缩版图图形、金属块外扩内缩
Rotate（子菜单）：旋转选中对象（90°/180°/ 自定义角度翻转）

3.7 约束、检查、ECO 修改分组

Constraints（子菜单） 手动添加布局约束、布线约束、禁布区、密度约束、最大绕线长度约束等物理规则。
DRC（子菜单） 实时局部 DRC 检查、修复 DRC 违规、查看违规详情、批量清除 DRC 标记。
ICV（子菜单） ICV 版图一致性检查（原理图 vs 版图 LVS 基础预检，开路、短路、器件匹配检查）
ECO（子菜单） 工程变更指令：门单元增删、替换、引脚重连、逻辑修改，不改网表直接改版图时序修复。

3.8 选项与属性设置

Options... Shift+S 全局编辑参数设置：吸附步长、默认金属层、画图格点、撤销步数、显示过滤、鼠标编辑模式配置。
Properties Ctrl+R 打开选中对象属性面板：查看 / 修改单元名称、网络名、层属性、坐标、宽度、约束属性等。

4. creat 界面

Create菜单是手动创建版图图形、布局约束、布线引导、电源域、禁区规则的核心入口，贯穿布局规划、手工布线、约束定义全流程，附带快捷键、释义与工程应用场景：

4.1、走线、通孔、封装专用走线

选项	快捷键	功能说明
Route	`Shift+R`	手工绘制金属走线，自定义拐点、线宽，用于关键信号、时钟、差分线手动绕线优化
RDL	---	重分布层绘制，面向倒装芯片、Bump 封装设计，实现顶层焊盘引出布线
Via	`Shift+C`	手动插入通孔，实现上下金属层电气连通，修补断线、引脚打孔常用

4.2、边界、分组、总线管理

Bound 绘制闭合边界框，用于圈定分区范围、模块边界、自定义裁剪区域，辅助分块布局。
Bundle 总线束打包，将一组并行数据线 / 地址线编组，统一约束走线长度、等长匹配，适配 DDR、高速并行总线。
Edit Group Ctrl+[ 创建 / 编辑对象分组，可批量移动、锁定、隐藏一组单元 / 走线，模块化管理复杂设计。
Fill 插入 Dummy 填充金属，满足工艺最小面积、密度规则，解决版图密度 DRC 违规。

4.3、布局 / 布线引导约束（Guide 类）

IO Guide：限定 IO 单元摆放区域，规划芯片 IO 环位置与排布范围
Pin Guide：约束单元引脚出线方向、起始区域，规范端口走线入口
Routing Guide：强制自动布线仅在指定区域走线，约束关键路径走向、避让敏感模拟区域
Routing Guide Access Preference：设置引脚走线接入优先级，定义走线优先从引脚哪一侧出线

4.4、各类 Blockage 阻挡禁区（PR 核心物理约束）

Blockage = 物理禁区，禁止对应对象进入该矩形区域

Pin Blockage：禁止引脚落在该区域
Placement Blockage：禁止标准单元、宏单元摆放
Routing Blockage：禁止金属走线穿越
Shaping Blockage：禁止金属填充、多边形图形占用该区域配套通道约束：
Routing Corridor：狭长布线走廊，强制走线仅在通道内穿行，管控拥挤区域走线流向

4.5、多电压 / 电源相关约束

PG Region：电源分区，划分不同电压域版图范围，用于低功耗多电压 (MV) 设计隔离
Voltage Area：电压属性标记区域，辅助 IR 压降分析、电平转换单元合规性检查

4.6、基础版图图形、标注、轨道定义

Shape Shift+H：绘制矩形、多边形、路径等自定义图形，用于电源环、屏蔽金属、自定义禁区绘制
Site Array：自定义单元摆放格点阵列，修改标准单元摆放基准，适配特殊密度布局需求
Terminal：手动创建芯片顶层输入 / 输出端口
Text：添加文字注释，用于模块命名、版本标注、版图说明归档
Track：自定义布线轨道，手动设置金属走线间距、轨道偏移，精细化管控布线密度

4.7、时钟拓扑、引脚匹配约束

Topology Layout：时钟拓扑预布局，提前定义时钟树分支结构、缓冲器摆放点位，做 CTS 前置约束
Topological Pin Constraint：引脚拓扑匹配约束，限定差分对、匹配电阻、等长电路引脚连接关系

4.8、通孔区域约束

Via Region：限定仅可在该区域放置通孔，管控通孔密度、规避通孔 DRC 问题

5. View 界面

5.1、基础视图操作

Mouse Tool（子菜单） 切换鼠标操作模式：选择、平移、框选缩放、画线、吸附拾取等，自定义鼠标交互行为。
Zoom（子菜单） 版图缩放控制：放大、缩小、框选缩放、全屏适配、居中查看等视图快捷操作。
Grid（子菜单） 格点配置：开关格点显示、设置格点间距、吸附步长，布局布线对齐必备。
InfoTip ✅ 快捷键 Shift+I 悬浮信息提示，鼠标悬停单元、走线、引脚时，弹窗显示网络名、实例名、层级、时序属性，排查问题高频工具。
Refresh 快捷键 R 强制刷新画布，解决图层渲染残影、图形显示错乱、视图不同步问题。

5.2、辅助显示开关组

Assistants：各类实时辅助提示总开关（DRC 报错标记、连通性提示、时序标注、密度着色等）。
Flylines：飞线显示控制，开关未完成布线引脚间虚拟连线，布局阶段评估互连拥堵程度。
Map：芯片全局缩略小地图，超大设计快速定位、跳转版图局部区域。

5.3、核心分析浏览器面板

菜单选项	快捷键	功能说明
Error Browser	`Ctrl+Shift+E`	错误浏览器，汇总 DRC、LVS、时序、物理约束违例，一键跳转报错坐标定位修复
Hierarchy Browser	---	层次结构浏览器，展开 / 收拢模块层次，快速选中、筛选层次化子模块
Name Based Hierarchy Browser	---	按名称检索层级，适合超大规模设计精准搜索实例、模块

5.4、多视图模式切换

Layout View：默认物理版图视图，查看金属、通孔、单元、约束图形。
Block Diagram View：模块框图视图，宏观查看顶层子模块划分与模块互连关系。
Schematic View：逻辑原理图视图，支持版图与原理图交叉探查，核对网表一致性。
Multivoltage Views：多电压域着色视图，不同电压区域区分配色，辅助低功耗多电压设计检查。

5.5、统计与自定义面板

User Tables：自定义数据表格面板，导出单元、网络、约束、功耗统计表格，便于整理报告。
Charts：图表面板，可视化查看拥塞分布、功耗密度、时序分布统计图。

5.6、界面状态栏与工具栏

Status Bar ✅：底部状态栏开关，实时显示鼠标坐标、当前图层、选中对象信息、操作提示。
Toolbars：自定义顶部快捷工具栏，增删常用功能快捷按钮，适配个人操作习惯。

5.7、界面偏好配置

Preferences... 快捷键 Ctrl+K 全局显示参数配置：图层颜色、透明度、字体大小、图层显示过滤、渲染模式、选中样式等。
Save Preferences：手动保存当前界面配置。
AutoSave Preferences ✅：开启自动保存界面配置，重启 ICC2 后设置不会重置。

6. select

Select菜单是 ICC2批量精准选中版图对象的控制入口，用于按名称、类型、关联关系筛选单元、走线、引脚、约束图形，是批量修改、排查问题的高频工具。

表格

菜单选项	快捷键	功能释义 & 工程用途
Clear	`Ctrl+D`	清空当前所有选中对象，取消框选 / 点选状态
By Name Toolbar	`Ctrl+/`	调出名称搜索工具栏，实时输入名字快速匹配选中实例、网络、端口
By Name...	`Ctrl+B`	弹出名称选择弹窗，支持通配符批量筛选，按实例名、网络名、层次名精准选取对象
Cells By Type	---	按单元类型筛选选中：批量选寄存器、缓冲器、IO 单元、门控时钟、电平转换单元等，常用于时序批量优化
Add to Selection	---	叠加选择模式，新选中对象追加到已有选集，不会清空之前选中内容
Current Block	---	一键选中当前整个设计 Block 内所有对象
Highlighted	---	选中所有被高亮标记（Highlight）的对象，用于筛选问题走线 / 违规单元批量处理
Related Objects（子菜单）	---	选中关联对象：可选择同一网络走线、同层级实例、驱动 / 负载引脚、相连通孔、关联约束图形，快速排查连通性
Selection List	`Ctrl+L`	打开选集列表面板，查看、增删、保存、批量管理当前选中的所有对象
Query Selection	`Q`	选中查询模式，点击对象即可弹出属性信息，查看名称、网络、层次、物理坐标等参数

7. highlight

Highlight菜单用于用不同颜色标记区分版图对象、网络、层次结构，方便排查时序违例、短路开路、模块划分、拥塞问题，是调试分析最直观的可视化工具。

菜单选项	快捷键	功能说明 & 工程用途
Selected	`Ctrl+H`	给当前选中对象打上当前颜色高亮，标记待检查单元 / 走线
Nets of Selected Objects	`Ctrl+Shift+H`	自动提取选中对象所属整条网络，把该网络所有走线、引脚统一高亮，排查整条信号通路
Net Flylines of Selected Objects	`Ctrl+Shift+F`	高亮选中对象对应网络的飞线，布局阶段快速查看未布线互连拥堵情况
Clear Selected	---	仅清除当前选中对象的高亮颜色，其他高亮保留
Clear Current Color	---	清除使用当前颜色的所有高亮，其余颜色标记不变
Clear All	`Ctrl+M`	一键清空版图上全部高亮标记，重置所有着色
Set Current Color（子菜单）	---	挑选预设颜色，设定接下来高亮操作使用的基础颜色
Next Color	`Ctrl+N`	循环切换下一个可用高亮颜色，快速多组对象区分标记
Auto Cycle Colors	---	自动轮换颜色，批量高亮不同对象时自动分配不同色彩
Color Using Brightness	---	按数值明暗梯度着色，常用于 IR 压降、拥塞密度、时序裕量可视化（数值越大亮度越深）
Select Only Highlighted	---	只选中所有带高亮标记的对象，方便批量编辑、批量删除问题走线
Color By（子菜单）	---	多维度自动着色：按网络、电压域、单元类型、时序分组、拥塞程度自动上色分类
Color by Hierarchy（子菜单）	---	按设计层次自动分配不同颜色，直观区分顶层、各个子模块边界与分布

8.Schematic

该菜单是 Cadence Innovus（数字后端布局布线 EDA）原理图视图专用 Schematic 下拉菜单栏，多用于网表探查、时序路径追溯、层次化电路查看、工程 ECO 修改，下面逐条解析功能：

8.1 基础浏览导航

菜单	中文译名	功能说明
Back	返回	回退到上一次查看的原理图节点 / 层级位置
Forward	前进	前进到下一次浏览位置，类似浏览器前进后退

8.2 扇入扇出网络探查（Fanin/Fanout）

菜单	中文译名	功能说明
Fanin / Fanout（子菜单）	扇入 / 扇出查看	快速查看选中 Pin / 单元的上游驱动路径（扇入）、下游负载路径（扇出），时序排查高频功能
Add Fanin/Fanout...	添加扇入 / 扇出网络	手动自定义层级深度，追加查看指定范围的上下游连通电路
Delete（快捷键 Del）	删除	移除原理图里选中的连线、单元、Pin，精简视图冗余内容
Add Selected	添加选中对象	把版图 / 其他窗口选中的器件、端口追加到当前原理图视图中
Show Power	显示电源网络	在原理图中展开显示 VDD/VSS 电源地连通路径，分析供电拓扑

8.3 层次展开 / 收拢控制

菜单	中文译名	功能说明
Expand（子菜单）	展开层次	对层次化模块 Hierarchy 向下展开，查看内部子电路细节，可设置展开层数
Collapse（子菜单）	收拢层次	收拢嵌套的子模块，简化原理图视图，只保留顶层模块轮廓
Pin Markers（子菜单）	端口标记设置	配置输入 / 输出端口、电源端口的显示样式、标记开关，区分端口类型

8.4 虚拟层次与结构查看

菜单	中文译名	功能说明
Pseudo-Hierarchy（子菜单）	虚拟层次管理	手动自定义虚拟分组，把零散单元归类成逻辑组，不改动原始网表，仅用于视图梳理
Show Hierarchy（子菜单）	层级结构展示	可视化整个设计模块嵌套树，快速跳转任意层级子模块原理图
ECO（子菜单）	工程变更修改	ECO（Engineering Change Order）功能入口，支持增删单元、改连线、改端口、替换单元，做后期网表增量修改

8.5 脚本导入导出

菜单	中文译名	功能说明
Export To Script	导出为脚本	将当前原理图选取规则、视图配置导出成 TCL 脚本，方便复用批量探查路径
Import From Script	从脚本导入	加载已有 TCL 脚本，自动批量生成指定电路原理图视图

9. window

一、Window Operations 窗口操作（各类专用分析窗口 + 全局窗口管理）

专用功能窗口（打开对应分析面板）

菜单名称	中文名称	后端设计用途
Block Window	模块层级窗口	查看 / 管理设计层次、单元模块（Hierarchy），快速跳转不同子模块
Clock Tree Analysis Window	时钟树分析窗口	分析时钟树结构、skew、插入延迟、时钟单元分布，CTS 调试核心面板
Message Browser Window	消息日志浏览器	查看工具运行告警、错误、命令打印日志，排查脚本 / 流程报错
PG Pattern Window	电源地模式分析窗口	电源网格（Power/Ground）分析，查看压降、电流密度、供电拓扑
RP Window	冗余通孔分析窗口	Redundant Via 冗余通孔统计、检查、批量修复面板
Timing Analysis Window	时序分析窗口	时序路径 slack、建立 / 保持违例、路径分组可视化分析
Design Assistant	设计助手	设计规则、DRC、LVS、布线、时序、功耗问题一键检查汇总

全局窗口控制

Close All Windows (Close GUI)：关闭所有浮动面板，等同于重置 GUI 界面
Close Window：关闭当前激活的浮动窗口
Next Window（Ctrl+）`：切换到下一个打开窗口
Previous Window（Ctrl+~）：切换到上一个打开窗口
Save Window Settings：手动保存当前所有窗口布局、面板位置配置
AutoSave Window Settings（已勾选）：开启自动保存窗口布局，重启工具后恢复界面排布

二、View Operations 视图操作（Layout 画布视图管理）

Close All Views：关闭所有打开的 Layout 设计视图
Close View（Ctrl+W）：关闭当前激活的 Layout 视图
Maximize Views：当前视图全屏最大化
Tile Views：平铺排布所有打开视图（左右 / 上下均分）
Next View（Ctrl+Tab）：切换下一个 Layout 视图
Previous View（Ctrl+Backtab）：切换上一个 Layout 视图

底部视图列表

列出当前已打开的所有设计视图：

BlockWindow.1、BlockWindow.2：两个模块层级窗口，绑定设计 hs_chip.nlib:hs_chip/for_pnr.design
Layout.2：第二个版图画布视图