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晶圆缺陷分类
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AI驱动半导体良率提升:基于机器学习的晶圆缺陷分类系统搭建
半导体制造是现代工业的"极限挑战",制造单颗芯片就像用微观乐高积木搭建摩天大楼,一块积木的微小移位——肉眼不可见——就能让整个结构坍塌。随着制程节点从28纳米加速迈向5纳米、3纳米,1.5纳米研发进入关键阶段,芯片性能持续突破的同时,制造体系的复杂度呈指数级攀升。
我是有底线的