集成光电子

Lightigo1 年前
半导体·集成光电子·光刻
半导体制造工艺（一）光刻在这里开个新专题，主要详细描述半导体制造整个流程中所用到的设备工艺步骤。在集成电路制造工艺中，光刻是决定集成器件集成度的核心工序，该工序的作用是将图形信息从掩模版（也称掩膜版）上保真传输、转印到半导体材料衬底上。光刻工艺的基本原理是利用涂敷在衬底表面的光刻胶的光化学反应作用，记录掩模版上的器件图形，从而实现将集成器件图形从设计转印到衬底的目的。