sentaurus tcad

幻象空间的十三楼1 天前
sentaurus tcad
Sentaurus TCAD中Sprocess的离子注入本章介绍Sentaurus Process中离子注入的实现方式。离子注入是一种广泛使用的工艺技术，用于将杂质原子引入半导体材料中。在Sentaurus Process中，可以使用解析函数或蒙特卡洛（MC）方法来计算注入离子的分布和注入损伤。