本章提供 SVRF 规则文件中主要元素的摘要信息。表格按类别列出了 SVRF 语句和操作，并附带命令的简短描述。
一、层操作
层操作是一类函数，在执行时可通过其他派生层或原始层创建新的派生层。
1.1 层操作概念
层操作分为两类：尺寸检查操作 和辅助操作 。这些操作的输出分为三类：错误导向型 、边导向型 和多边形导向型。
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错误导向型输出由边线段的输出簇构成；此类输出会发送至 Calibre nmDRC 结果数据库，且不可用于生成派生层。本章后续讨论的尺寸检查操作主要生成此类输出；不过，
Drawn Acute、Drawn Angled、Drawn Skew、Drawn Offgrid和Offgrid等辅助操作也可生成此类输出。 -
边导向型输出以边线段的形式呈现。它既可发送至 Calibre nmDRC 结果数据库，也可用于派生层的生成。
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多边形导向型输出以多边形的形式呈现。它既可发送至 Calibre nmDRC 结果数据库，也可用于派生层的生成。
所有操作还可分为两个子类别：层选择器 和层构造器。
- 层选择器会根据对应操作所搜索的特定属性，从合适的输入层中选择数据。
- 层构造器则基于输入层的特征构建新的多边形数据。后续表格会标注各操作所属的类别。
层选择器具有一项额外属性：节点保留性 （或网络保留性），即会传递连通性信息。其传递方式如下：
x = layer1 operation
y = layer1 operation layer2在上述两种情况下，连通性信息（即网络 ID）都会从 layer1 传递至输出层。部分层构造器也具备此属性，例如 AND 和 NOT。
注：本节所有表格中，层构造器以上标 c 表示，层选择器以上标 s 表示，若操作可同时承担两种角色则以上标 cs 表示。
1.2 尺寸检查层操作
尺寸检查操作通过测量单个或两个输入层上的边间距来生成派生层。本节对尺寸检查层操作进行汇总。
表 3-1 汇总了尺寸检查操作的行为。根据所使用的次要关键字，这些操作可分为错误导向型、边导向型或多边形导向型。
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当配置为多边形导向型 时，它们充当层构造器；
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当配置为错误导向型 （默认状态）或边导向型 （通过
[ ]和( )层运算符）时，它们充当层选择器； -
当配置为边导向型时，它们同时具备节点保留性。
示例如下：
rule1 { ENC contact metal1 < 0.06 }
// error-directed output to Calibre nmDRC results database
rule2 { x = ENC [contact] metal1 < 0.06
COPY x }
// edge-directed Enclosure output to derived layer x
rule3 { ENC contact metal1 < 0.06 REGION }
// polygon-directed output to Calibre nmDRC results database操作名称后的上标含义如下：c 表示层构造器，s 表示层选择器（同时具备节点保留性），cs 表示操作可同时承担两种功能。
1.3 辅助层操作
所有非尺寸检查层操作的层操作均为辅助操作。辅助层操作通常利用某种布尔属性或拓扑属性来分析边或多边形之间的关系。
表 3-1 层操作：尺寸检查操作
| 操作 | 描述 |
|---|---|
| DFM Spaceⁿᶜ | 针对大间距约束（>0.5 微米），可高效测量边到边的距离。该操作的测量方式和生成结果与 DRC 操作 External、Internal 和 Enclosure 类似，但支持的选项集更为有限。输出层始终为派生错误层（不支持 External、Internal 和 Enclosure 操作的边输出）。 |
| Enclosureᶜˢ | 测量一个层的边的外侧与另一个层的边的内侧之间的间距。满足给定约束的被测边对会被输出。默认情况下，不测量相交的边对。使用 REGION 关键字时为多边形导向型，使用 [ ] 和 ( ) 运算符时为边导向型，默认状态为错误导向型。 |
| Externalᶜˢ | 测量输入层的边的外侧之间的间距。满足给定约束的被测边对会被输出。默认情况下，不测量相交的边对。使用 REGION 关键字时为多边形导向型，使用 [ ] 和 ( ) 运算符时为边导向型，默认状态为错误导向型。 |
| Internalᶜˢ | 测量输入层的边的内侧之间的间距。满足给定约束的被测边对会被输出。默认情况下，不测量相交的边对。使用 REGION 关键字时为多边形导向型，使用 [ ] 和 ( ) 运算符时为边导向型，默认状态为错误导向型。 |
| Rectangle Enclosureᶜ | 构建一个派生多边形层，包含被另一层包围的某一层中的矩形。适用于复杂的包围检查。 |
| TDDRCᶜ | 基于表格测量单个层的边的外侧之间的间距。使用 REGION 关键字时为多边形导向型，使用 [ ] 和 ( ) 运算符时为边导向型，默认状态为错误导向型。仅适用于 Calibre。 |
表 3-2 层操作：辅助操作
| 操作 | 描述 |
|---|---|
| 多边形导向型辅助操作（派生多边形层）： | |
| ANDᶜ | 布尔操作，从多个多边形区域相交的输入层中选择多边形区域。 |
| Areas(Not Area)ˢ | 选择满足面积约束的多边形。（括号内为逻辑非操作的语法，描述中括号内内容为逻辑非操作的行为，下同。） |
| Cuts(Not Cut)ˢ | 选择与第二层的多边形共享部分（而非全部）面积的多边形。 |
| Deangleᶜ | 通过将倾斜边替换为正交或 45 度边序列，构建派生多边形层。 |
| Densityᶜ | 通过测量设计指定区域内、用户指定窗口中的输入层密度，构建派生多边形层。 |
| Density Convolveᶜ | 生成输入层的表示形式，展示应用卷积算法后的密度值。 |
| Device Layerᶜ | 构建一个层，包含所有具有指定类型和模型名称的器件实例的种子形状。种子形状来自 Device 操作中的 device_layer 参数。仅适用于 LVS 应用。 |
| DFM Analyzeᶜ | 识别版图中可潜在提升制造良率的区域。需使用 Calibre YieldAnalyzer 许可证。 |
| DFM CAF | 在一个或多个输入层上计算数值化的关键面积值，并输出包含名为 CAF 的 DFM 属性的层。需使用 Calibre YieldAnalyzer 许可证。 |
| DFM Classifyᶜ | 按一个或多个指定的 DFM 属性对层上的几何图形进行分组，并从每个组中选择一个代表性几何图形。 |
| DFM Copyˢ | 将任意类型的层复制到新层，并允许选择要复制的特定单元。 |
| DFM Create Layer Polygonsᶜ | 使用 Calibre YieldServer 在 DFM 数据库的新层上创建多边形。多边形由 Calibre YieldServer 脚本中的 dfm::new_layer 命令生成。 |
| DFM Critical Areaᶜ | 识别影响良率的限制条件。需使用 Calibre YieldAnalyzer 许可证。 |
| DFM DV | 对输入层执行电压相关的 External 操作。同时满足外部约束和电压约束的边对会被输出。电压由附加到网络索引输入层的属性确定。 |
| DFM DV Analyzeᶜ | 将层数据写入 ASCII 格式的结果数据库（RDB）。该结果数据库的组织结构有助于分析 DFM DV 操作的结果。 |
| DFM Expand Edgeᶜ | 基于附加到输入层的 DFM 属性扩展边。默认需使用 Calibre YieldEnhancer 许可证。 |
| DFM Expand Enclosureᶜ | 为过孔生成扩展包围区域。需使用 Calibre YieldEnhancer 许可证。 |
| DFM Fillᶜ | 创建包含根据填充规范生成的填充多边形的派生多边形层。需使用 Calibre YieldEnhancer 许可证。 |
| DFM GCA | 输出派生多边形层，表示在给定半径的随机粒子存在时，易产生开路或短路的区域。需 Calibre YieldAnalyzer 产品许可证。 |
| DFM Growᶜ | 均匀扩展多边形。默认需使用 Calibre YieldEnhancer 许可证。 |
| DFM Histogram | 分析 DFM 属性值的分布并计算直方图。需 Calibre YieldAnalyzer 产品许可证。 |
| DFM Jogcleanᶜ | 根据指定条件移除 jog 后，生成输出层。需使用 Calibre YieldEnhancer 许可证。 |
| DFM Measureᶜ | 执行基于表格的单层宽度和间距检查。使用 REGION 关键字时为多边形导向型。可选择将结果输出到结果数据库（RDB）以进行统计分析。需使用 Calibre YieldAnalyzer 许可证。 |
| DFM NARACᶜˢ | 将包含 DFM 属性的层转换为网络面积比累积（NARAC）层。 |
| DFM Optimizeᶜ | 为可变尺寸的矩形填充形状生成优化的填充层。优化标准由 DFM Spec Optimize 和 DFM Spec Optimize Data 定义。需使用 Calibre YieldEnhancer 许可证。 |
| DFM OR Edgeᶜ | 对输入层的边执行布尔 OR 操作，对输入和输出具有更强的控制能力。默认需使用 Calibre YieldEnhancer 许可证。 |
| DFM Partitionᶜ | 创建一个多边形层，表示将输入层分割为满足最小尺寸、间距等特定条件的矩形和三角形。需使用 Calibre YieldEnhancer 许可证。 |
| DFM Pattern Captureᶜ | 基于指定的光刻热点或指定的掩模层捕获图案。 |
| DFM Pattern Classifyᶜ | 通过基于指定种子层对图案进行分类，生成输出层。 |
| DFM Propertyᶜ | 将用户定义的属性关联到输入层的各个对象，并创建仅包含满足指定条件的对象的派生层。 |
| DFM Property Mergeᶜ | 处理通过 DFM Text、DFM Expand Edge UNMERGED、DFM Copy REGION UNMERGED 或 DFM Read 创建的特殊未合并多边形层。 |
| DFM Property Netᶜ | 创建一个空的多边形层，包含来自具有连通性信息或 DFM 属性的输入层的 DFM 属性。 |
| DFM Property Select Secondaryᶜ | 给定主层和次层输入，将主层上的每个几何图形与零个或多个次层上的几何图形聚类，并输出来自选定次层的、所有用户定义属性表达式均计算成功的几何图形。 |
| DFM Property Singletonᶜ | 创建一个空的多边形层，包含从一个或多个输入层计算得到的用户定义 DFM 属性。 |
| DFM RDBᶜ | 将原始或派生层数据写入结果数据库（默认为 ASCII 格式）。行为类似层构造器操作。仅在语法 4 中需使用 Calibre YieldEnhancer 产品许可证。 |
| DFM RDB ASCII | 将原始或派生层数据写入自定义格式的文本文件。需使用 Calibre YieldEnhancer 许可证。 |
| DFM Readᶜ | 将输入数据库中的版图属性作为 DFM 属性访问。 |
| DFM Redundant Viasᶜˢ | 识别版图上的冗余或非冗余多边形，并生成包含这些识别出的多边形的派生多边形层。需与 DFM Spec Via Redundancy 配合使用。需 Calibre YieldAnalyzer 许可证。 |
| DFM Select By Net | 给定两个具有连通性信息的输入层，输出第一层中满足面积约束的多边形。第二个输入层可以是由 DFM Property Net 生成的网络索引层。面积约束针对同一节点上的多边形计算。 |
| DFM Shiftᶜ | 基于附加到输入层的 DFM 属性或显式数值，平移输入层。默认需使用 Calibre YieldEnhancer 许可证。 |
| DFM Shift Edgeᶜ | 基于附加到输入层的 DFM 属性平移边。需 Calibre YieldEnhancer 产品许可证。 |
| DFM Sizeᶜ | 按指定量放大或缩小输入层上的多边形。默认需使用 Calibre YieldEnhancer 许可证。 |
| DFM Stampᶜ | 生成输入层的副本作为输出层，并保留所有附加的 DFM 属性。 |
| DFM Textˢ | 将文本对象转换为 DFM 属性。 |
| DFM Transformᶜ | 对输入层上的几何图形进行变换。需使用 Calibre YieldEnhancer 许可证。 |
| DFM Transitionᶜ | 为互连过渡添加金属和过孔。需 Calibre YieldEnhancer 产品许可证。 |
| DFM Via Shiftᶜ | 优化过孔位置和金属覆盖，减少间距违规。需 Calibre YieldEnhancer 产品许可证。 |
| Donuts(Not Donut)ˢ | 选择具有（不具有）内部环的输入层多边形。 |
| Encloses(Not Enclose)ˢ | 选择完全包围（不完全包围）第二层中任意多边形的所有多边形。 |
| Enclose Rectangles(Not Enclose Rectangle)ˢ | 选择能够（不能）包围指定尺寸矩形的所有多边形。 |
| Expand Edgeᶜ | 根据扩展参数，将输入层上的边转换为矩形，构建派生多边形层。 |
| Expand Textᶜ | 构建派生多边形层，包含以具有指定文本名称的文本对象位置为中心的合并正方形。 |
| Extentᶜ | 构建派生多边形层，包含一个与运行时读取的数据库范围相等的矩形，或表示输入层上所有形状的最小边界框。 |
| Extent Cellᶜ | 构建派生多边形层，包含表示给定列表中单元范围的矩形。仅适用于 Calibre。 |
| Extent Drawnᶜ | 构建派生多边形层，包含指定输入层上形状（非文本）的范围。 |
| Extentsᶜ | 构建派生多边形层，包含每层上每个多边形的合并最小边界框。 |
| Growᶜ | 构建派生多边形层，其中输入层的多边形沿指定方向向外扩展。 |
| Holesᶜ | 构建派生多边形层，包含适配输入层多边形孔洞内部的多边形。 |
| Insides(Not Inside)ˢ | 选择与第二层的多边形共享全部（非全部）面积的所有多边形。 |
| Inside Cellᶜ(Not Inside Cell)ᶜ | 选择位于（不位于）指定单元子层次结构内的所有多边形。仅适用于 Calibre。 |
| Interacts(Not Interact)ˢ | 选择与第二层的多边形共享点的（不共享点的）所有多边形。 |
| Magnifyᶜ | 按数值参数中指定的比例放大输入层上的多边形，构建派生层。 |
| Nets(Not Net)ˢ | 与连通性相关的操作，选择位于（不位于）指定网络上的所有 layer1 多边形。 |
| Net Areas | 与连通性相关的操作，选择位于电节点上的层多边形，且同一节点上多边形的总面积满足给定约束。 |
| Net Area Ratioᶜˢ | 与连通性相关的操作，选择位于电节点上且表达式值满足约束的多边形。 |
| Net Area Ratio Accumulateᶜ | 与连通性相关的操作，当约束满足时输出多边形。操作表达式的值会附加到输出层。 |
| Net Area Ratio Coupledᶜ | 与连通性相关的操作，允许计算输入层之间的耦合面积。可用于涉及耦合栅极的天线规则检查。 |
| Net Interactᶜ | 与连通性相关的操作，输出与第二层多边形相关联的指定数量节点相互作用的多边形。 |
| NOTᶜ | 两层布尔操作，选择不与第二层多边形共有的多边形区域。具备节点保留性的层构造器。 |
| ORᶜ | 单层或两层布尔操作，合并相交的多边形。对于两层操作，OR 会求输入层上多边形的并集。单层版本很少使用，因为所有使用 SVRF 的应用都会按层预先合并数据。 |
| Ornetᶜ | 与连通性相关的操作，合并（不完全合并）同一网络上所有重叠的输入多边形。具备节点保留性的层构造器。在层次化应用中以扁平化方式执行。 |
| Outsides(Not Outside)ˢ | 选择完全位于 layer2 多边形外部（非外部）的所有 layer1 多边形。 |
| Pathchkᶜ | 构建派生层，包含具有（或不具有）通往电源、地或带标签网络的路径，或满足这些条件组合的版图网络。在 Calibre nmLVS/Calibre nmLVS-H 和 ICtrace 掩模模式的电路提取期间使用。 |
| Perimeter ˢ | 选择具有指定周长的多边形。 |
| Pinsᶜ | ICverify 操作，生成包含指定原始层上所有引脚形状的派生多边形层。 |
| Portsᶜ | ICverify 操作，生成包含指定原始层上所有端口形状的派生多边形层。端口形状仅从顶层单元模板中选择。 |
| Pushᶜ | 对于层次化应用，通过将输入层推至层次结构的最低可能级别（即远离顶层单元），构建派生层。在扁平化应用中，行为与 Copy 类似。 |
| Rectangles(Not Rectangle)ˢ | 选择是（不是）矩形的多边形，可选择性指定尺寸。 |
| Rectanglesᶜ | 构建派生多边形层，包含具有指定尺寸和间距的矩形阵列。用于平面化。 |
| Rotateᶜ | 将输入层上的所有多边形旋转指定角度，构建派生多边形层。在层次化应用中以扁平化方式执行。 |
| Shiftᶜ | 沿 x 轴和 y 轴平移多边形，构建派生层。 |
| Shrinkᶜ | 沿指定方向收缩多边形，构建派生层。 |
| Sizeᶜ | 按指定量放大或收缩多边形，构建派生层。 |
| Snapᶜ | 将输入层上的顶点放置在分辨率参数指定的网格上，构建派生层。 |
| Stampᶜ | 与连通性相关的层操作，构建一个层，包含被第二层多边形重叠的多边形，并将第二层的节点信息传递至输出层。 |
| Topexᶜ | ICverify 操作，构建派生多边形层，包含指定原始层上来自顶层单元模板且具有外部属性的所有形状。 |
| Touchˢ(Not Touch)ˢ | 选择位于第二层所有多边形外部（非外部）且与（不与）第二层多边形共享重合边或其部分的多边形。 |
| Vertexˢ | 选择具有指定顶点数量的多边形。 |
| With Edges(Not With Edge)ˢ | 选择与（不与）第二层共享边或边线段的多边形。 |
| With Neighbors(Not With Neighbor)ˢ | 选择具有（不具有）指定数量、在指定距离内的正交矩形的正交矩形。 |
| With Texts(Not With Text)ˢ | 选择与（不与）指定文本对象的位置相交的多边形。 |
| With Widthᶜ(Not With Width)ᶜ | 构建包含满足（不满足）指定宽度约束的多边形的层。 |
| XORᶜ | 单层或两层布尔操作，构建包含恰好被一个多边形覆盖的区域的派生多边形层。 |
| 边导向型辅助操作（派生边层）： | |
| Angles(Not Angle)ˢ | 选择与坐标系 x 轴的较小角度绝对值满足（不满足）给定约束的边。 |
| Coincident Edges(Not Coincident Edge)ˢ | 选择与（不与）第二层的边重合的边或边的部分。 |
| Coincident Inside Edges(Not Coincident Inside Edge)ˢ | 选择与（不与）第二层的边重合且具有相同内侧的边或边的部分。 |
| Coincident Outside Edges(Not Coincident Outside Edge)ˢ | 选择与（不与）第二层的边重合且具有相反内侧的边或边的部分。 |
| Convex Edges | 基于凸端点数量、边长、邻接边角度和邻接边长选择边。 |
| DFM Classifyˢ | 按一个或多个指定的 DFM 属性对层上的几何图形进行分组，并从每个组中选择一个代表性几何图形。 |
| DFM Measureᶜ | 执行基于表格的单层宽度和间距检查。使用 [ ] 运算符时为边导向型。可选择将结果输出到结果数据库（RDB）以进行统计分析。需 Calibre YieldAnalyzer 许可证。 |
| DFM Stampᶜ | 生成输入层的副本作为输出层，并保留所有附加的 DFM 属性。 |
| Inside Edges(Not Inside Edge)ˢ | 选择完全位于（不位于）第二层多边形内部的边或边的部分。 |
| Lengths(Not Length)ˢ | 选择长度满足（不满足）给定约束的边。 |
| OR Edgeᶜ | 布尔操作，构建两个边层的并集。 |
| Outside Edges(Not Outside Edge)ˢ | 选择完全位于（不位于）layer2 多边形外部的 layer1 边或边的部分。 |
| Path Lengths | 选择来自单个多边形的最大连续边路径上的边，且该路径的总长度满足给定约束。 |
| Touch Edges(Not Touch Edge)ˢ | 选择与（不与）第二层的边或线段重合的完整边。 |
| Touch Inside Edges(Not Touch Inside Edge)ˢ | 选择与（不与）第二层多边形的边或线段重合且具有相同内侧的完整边。 |
| Touch Outside Edges(Not Touch Outside Edge)ˢ | 选择与（不与）第二层多边形的边重合且具有相同外侧的完整边。 |
| 错误导向型辅助操作（派生错误层，无节点保留性）： | |
| DFM Classifyˢ | 按一个或多个指定的 DFM 属性对层上的几何图形进行分组，并从每个组中选择一个代表性几何图形。 |
| DFM Spaceᶜ | 针对大间距约束（>0.5 微米）测量边到边的距离。测量方式和生成结果与 DRC 操作 External、Internal 和 Enclosure 类似。 |
| Drawn Acute | 选择从版图数据库读取的任何原始几何图形上的锐角。 |
| Drawn Angled | 选择从版图数据库读取的任何原始数据中与数据库轴不正交的边。 |
| Drawn Offgrid | 选择从版图数据库读取的任何原始几何图形上的偏置网格顶点。 |
| Drawn Skew | 选择从版图数据库读取的任何原始几何图形上的倾斜边（非正交且斜率不为 ±1 的边）。 |
| Offgridᶜ | 选择输入层上的偏置网格顶点。 |
| Offgrid Directionalᶜ | 根据包围层、测量方向、指定网格以及（可选）边的朝向，检查输入边的位置。 |
| 杂项操作： | |
| Copyˢ | 选择一个层并生成其副本。 |
| DFM Mergeᶜ | 生成输入层的合并副本。DFM Merge 比 Merge 操作更好地保留层次结构。在扁平化应用中，功能与 Copy 等效。 |
| Flattenᶜ | 对于层次化应用，构建输入层的扁平化副本。在扁平化应用中，功能与 Copy 等效。 |
| Inductance MIChecks | 选择估计互感违反约束的几何图形。 |
| Mergeᶜ | 对于层次化应用，构建输入层的合并副本。在扁平化应用中，功能与 Copy 等效。 |
| TVF Layer Operationᶜ | 基于一个或多个输入层构建输出层。TVF 操作用作对 TVF FUNCTION 的调用，适用于运行时 TVF 环境。 |
连通性提取语句定义设计的电连通性 和网络名称。它们支持多种应用，包括 ICverify 中的动态连通性维护、Calibre nmDRC 系统中基于连通性的尺寸检查操作、寄生参数提取操作以及 LVS。本节对连通性提取语句进行汇总。
下表列出了连通性提取语句，详细描述请参见命令参考。
表 3-3 连通性提取语句
| 操作 | 描述 |
|---|---|
| Attach | 将连通性信息从一个层传递到另一个层。主要用于文本标签的附加。 |
| Connect | 定义输入层上的电连接。 |
| Disconnect | 删除现有的连通性模型。仅适用于使用增量连通性的 Calibre nmDRC 应用。 |
| Label Order | 指定连通性提取搜索形状以连接到其他形状的顺序。 |
| Layout Text | 在规则文件中直接指定版图数据库文本。不适用于 ICverify。 |
| Layout Text File | 指定包含 Layout Text 对象的文件。适用于需要指定大量文本对象的场景。不适用于 ICverify。 |
| Sconnect | 指定指定层上对象之间的单向连接。用于软连接的检测。 |
| Stamp | 与连通性相关的操作，构建一个层，包含来自一个层的、具有与另一层重叠多边形连通性的多边形。 |
| Text | 在规则文件中直接指定顶层版图数据库文本对象（独立文本）。也允许编辑从版图数据库读取的文本对象。 |
| Text Depth | 指定连通性提取器从版图数据库读取文本对象的层次深度。 |
| Text Layer | 指定数据库中用于连通性提取文本的层。 |
二、虚拟连接规范语句
连通性提取语句 用于定义设计的电气连通性 和网络名称 。这些语句支持多种应用场景，包括：ICverify 中的实时连通性维护 、Calibre nmDRC 系统中基于连通性的尺寸检查操作 、寄生参数提取操作 以及LVS（版图与电路图一致性检查）。本节对连通性提取语句进行总结。
表 3-3 连通性提取语句
| 操作 | 描述 |
|---|---|
| Attach（附着） | 将连通性信息从一个层传递到另一个层。主要用于文本标签的附着。 |
| Connect（连接） | 定义输入层上的电气连接。 |
| Disconnect（断开连接） | 删除现有的连通性模型。仅适用于使用增量连通性的 Calibre nmDRC 应用。 |
| Label Order（标签顺序） | 指定连通性提取搜索图形以连接到其他图形的顺序。 |
| Layout Text（版图文本） | 在规则文件中直接指定版图数据库文本。ICverify 中不使用。 |
| Layout Text File（版图文本文件） | 指定包含版图文本对象的文件。当需要指定大量文本对象时使用。ICverify 中不使用。 |
| Sconnect（单向连接） | 指定指定层上对象之间的单向连接。用于软连接的检测。 |
| Stamp（印记） | 与连通性相关的操作，用于构造一个层，该层包含来自某一层的多边形，且这些多边形具有来自另一层的重叠多边形的连通性。 |
| Text（文本） | 在规则文件中直接指定顶层版图数据库文本对象（独立文本）。同时允许编辑从版图数据库中读取的、供连通性提取器使用的文本对象。 |
三. 虚拟连接指定语句
本部分总结虚拟连接指定语句。这些语句将两个或多个（不相交的）网络合并为一个网络，条件是这些网络共享相同的（不区分大小写）名称，或当存在冒号（:）或分号（;）时共享名称的一部分。除特别说明外，所有 Calibre 和 ICverify 应用均支持此语句。
表 3-4 指定语句：虚拟连接
| 语句 | 描述 |
|---|---|
| Virtual Connect Box Colon（虚拟连接 Box 冒号） | 为 LVS Box 单元中包含冒号（:）的相同网络名称指定虚拟连接。不适用于 LVS Box BLACK。仅用于 Calibre nmLVS-H 和 Calibre xRC。 |
| Virtual Connect Box Name（虚拟连接 Box 名称） | 为 LVS Box 单元中匹配的网络名称指定虚拟连接。不适用于 LVS Box BLACK。仅用于 Calibre nmLVS-H 和 Calibre xRC。 |
| Virtual Connect Colon（虚拟连接冒号） | 指定包含冒号（:）的相同网络名称进行虚拟连接。 |
| Virtual Connect Depth（虚拟连接深度） | 指定建立虚拟连接的层次深度。 |
| Virtual Connect Incremental（增量虚拟连接） | 允许在 Calibre nmDRC-H 流程的所有 Connect 区域内进行增量虚拟连接。 |
| Virtual Connect Name（虚拟连接名称） | 指定匹配的网络名称进行虚拟连接。 |
| Virtual Connect Report（虚拟连接报告） | 指示所有 Calibre 和 ICverify 应用，当连通性提取器建立虚拟连接时，输出警告（Calibre nmDRC 应用）或注释（其他应用）。 |
| Virtual Connect Report Maximum（虚拟连接报告最大值） | 指定启用虚拟连接报告时，输出的虚拟连接消息的最大数量。 |
| Virtual Connect Semicolon As Colon（虚拟连接分号作冒号） | 指定包含分号（;）的相同网络名称进行虚拟连接（处理方式与冒号相同）。 |
四、 器件识别语句
通过 Device 语句定义器件，用于识别和 LVS 对比。
五、分层语句
本部分总结与数据库分层相关的语句，分层操作在掩模制造之前执行。
下表列出分层语句。这些语句的详细说明见《Calibre 掩模数据准备用户及参考手册》。
表 3-5 分层语句
| 语句 | 描述 |
|---|---|
| Fracture Hitachi | 将版图输入数据转换为 Hitachi 格式，并输出到文件，供第三方掩模制备工具使用。需要 Calibre FRACTUREh 产品许可证。 |
| Fracture JEOL | 将版图输入数据转换为 JEOL 格式，并输出到文件，供第三方掩模制备工具使用。需要 Calibre FRACTUREj 产品许可证。 |
| Fracture MEBES | 将版图输入数据转换为 MEBES 格式，并输出到文件，供第三方掩模制备工具使用。需要 Calibre FRACTUREm 产品许可证。 |
| Fracture MICRONIC | 将版图输入数据转换为 MICRONIC 格式，并输出到文件，供第三方掩模制备工具使用。需要 Calibre FRACTUREc 产品许可证。 |
| Fracture NUFLARE | 将版图输入数据转换为 VSB11/VSB12 格式，并输出到文件，供第三方掩模制备工具使用。需要 Calibre FRACTUREt 产品许可证。 |
| Fracture NUFLARE_MBF | 将版图输入数据转换为 Nuflare 多束流设备格式。需要 Calibre FRACTUREn 产品许可证。 |
| Fracture OASIS_MAPPER | 将版图输入数据转换为 OASIS.MAPPER 格式。需要 Calibre FRACTUREp 产品许可证。 |
| Fracture OASIS_MASK | 将版图输入数据转换为 OASIS_MASK 格式（符合 SEMI P44 标准），并输出到文件，供第三方掩模制备工具使用。由于 OASIS_MASK 是 OASIS®1 格式的子集，且是 VB:OASIS 格式的超集，需要 Calibre FRACTUREv 产品许可证。 |
| Fracture OASIS_MBW | 将版图输入数据转换为适用于 IMS 设备的 OASIS.MBW 格式。需要 Calibre FRACTUREi 产品许可证。 |
| Litho File（光刻文件） | 用于指定内联文件。 |
六、 设计后校正语句
本部分总结用于光学和工艺校正的语句。大多数命令的详细说明见其对应的 RET 产品手册（Calibre OPCpro、Calibre nmOPC、Calibre OPCverify 等）。
| 操作或语句 | 描述 |
|---|---|
| LITHO MPC | 为掩模制造过程中出现的畸变提供建模、仿真和校正功能。 |
| MDP Checkmap | 输出单个或多个层及数据类型，并为大型单元提供 bin 注入功能，主要用于 OASIS bin 注入。 |
| MDP Embed | 为部分 SVRF 命令提供基于分段的处理，无需执行 FRACTURE 操作。 |
| MDP Mapsize | 允许根据版图元素的地理位置，对其进行可变尺寸调整。 |
| MDP Oasis_Extent | 计算 OASIS 版图的范围。 |
| MDPmerge | 优化掩模写入设备的吞吐量、对准和关键尺寸（CD）等参数控制，并基于多种标准，为单个芯片的相邻布局启用邻近校正。 |
| MDPstat | 分析矢量束数据（如 Hitachi、JEOL、NUFLARE 和 OASIS.MASK 格式数据），允许评估分层输出的质量。 |
| MDPverify | 通过对不同类型数据库执行布尔异或（XOR）对比，验证分层后的数据。需要 Calibre FRACTURE 产品许可证。 |
表 3-6 设计后校正语句
| 操作或语句 | 描述 |
|---|---|
| DFM Balance | Calibre 多重图形化操作，用于输出平衡的掩模。需与 DFM Spec Balance 配合使用。 |
| DFM Cluster | Calibre 多重图形化操作，基于连通组件的几何和图形属性，选择或生成分隔符或多边形。 |
| DFM DP | Calibre 双重图形化操作，将目标层分割为两个掩模，并生成错误层。 |
| DFM MP | Calibre 多重图形化操作，将目标层分割为三个或四个掩模，并生成错误层。 |
| DFM MPSTITCH | Calibre 多重图形化操作，用于生成多重图形拼接。需要 DFM SPEC MPSTITCH 进行约束指定。 |
| DFM Spec Balance | Calibre 多重图形化语句，用于指定多重图形掩模的平衡准则。 |
| DFM SPEC MPSTITCH | Calibre 多重图形化语句，为 DFM MPSTITCH 指定拼接值和约束。 |
| Litho DenseOPC | 指定运行 Calibre nmOPC，并将结果放置在指定的层上。其他变体包括 Litho CellArray DenseOPC（用于 CellArray OPC）、Litho EUV DenseOPC（用于 EUV OPC）和 Litho ML DenseOPC（用于机器学习 OPC）。 |
| Litho File | 用于指定内联文件。 |
| Litho nmBIAS | Calibre RET 层操作，用于调整目标层边缘以进行光学校正。需要 Calibre OPCpro 或 Calibre TDopc 产品许可证。 |
| Litho OPC | 指定运行 Calibre OPCpro，并将结果放置在指定的层上。 |
| Litho OPCverify | 指定运行 Calibre OPCverify，并将结果放置在指定的层上。 |
| Litho ORC | 指定运行 Calibre ORC，并将结果放置在指定的层上。 |
| Litho Printimage | 指定运行 Calibre PRINTimage，并将结果放置在指定的层上。 |
| Litho PSMgate | Calibre PSMgate 操作，用于生成并着色相移掩模图形。需要 Calibre PSMgate 许可证。 |
| OPCBIAS | Calibre RET 层操作，执行可变的孤立 / 密集线和过孔偏置。通过将单个边缘移动预定义的距离，放大或缩小对象。需要 Calibre OPCpro 或 Calibre TDopc 产品许可证。 |
| OPCLINEEND | Calibre RET 层操作，执行可变的线端延伸，从简单的端部延伸到锤头（hammerhead）创建。需要 Calibre OPCpro 或 Calibre TDopc 许可证。 |
| OPCSBAR | Calibre RET 层操作，用于创建散射条以进行光学校正。需要 Calibre OPCsbar 许可证。 |
| RET DPSTITCH | Calibre RET 操作，用于导出层。需要 Calibre 多重图形化产品许可证。 |
| RET FLARE_CONVOLVE | 基于 EUV 流程的光晕模型，生成光晕图。 |
| RET [EUV] MBSRAF | Calibre nmSRAF 操作，基于模型驱动的模板生成 SRAF。 |
| RET NMDPC | Calibre RET 操作 - 按间距分割过孔层，或将一个层分割为两个掩模。需要 Calibre 多重图形化产品许可证。 |
| RET Optimize_EUV_HDB | Calibre nmOPC 操作，用于查找具有相似阴影偏置和光晕的区域。需要 Calibre EUV 产品许可证。 |
| RET PXOPC | Calibre RET 操作，执行基于像素的 OPC 和优化的 SRAF 插入。需要 Calibre pxOPC 产品许可证。 |
| RET REFINE | Calibre RET 操作，用于增强标记区域，以改善初始 OPC 后的可打印性。所需许可证取决于设置文件调用的特定工具。 |
| RET SBAR | Calibre nmSRAF 操作，基于尺寸模板生成 SRAF。 |
标准验证规则格式（SVRF）手册，v2019.3 第 117-118 页 规则文件元素概述
七、指定语句
指定语句描述使用规则文件的应用的工作环境，控制数据的处理方式。
以下各节的表格列出了 Calibre 和 ICverify 应用中使用的指定语句。
7.1 DFM 指定语句
本部分列出适用于 Calibre DFM 应用（Calibre YieldAnalyzer 和 Calibre YieldEnhancer）的指定语句。
表 3-7 指定语句：DFM
| 语句 | 描述 |
|---|---|
| DFM Assert | 对各种 SVRF 对象断言要求，若未满足则生成编译器错误。该语句可在规则检查内使用，这与大多数指定语句不同。 |
| DFM Database | 指定要创建的 DFM 数据库目录的路径。仅与 calibre -dfm 配合使用。 |
| DFM Defaults | 为后续的 DFM RDB 语句指定默认选项。 |
| DFM Function | 指定用户定义的函数，可在 DFM Analyze、DFM Property 或其他 DFM 函数的表达式中引用。 |
| DFM Select Check | 指定要执行并写入 DFM 数据库的规则检查。仅与 calibre -dfm 配合使用。 |
| DFM Spec Fill | 创建填充规范，可与 DFM Fill 配合使用以生成填充层。 |
| DFM Spec Fill Optimizer | 定义一组优化准则，用于查找最佳填充。 |
| DFM Spec Fill Shape | 定义填充图形，并为其分配一个名称，可在 DFM Spec Fill 规范中引用。 |
| DFM Spec Optimize | 定义一组准则，用于在使用 DFM Optimize 优化填充时使用。需要 Calibre YieldEnhancer 许可证。 |
| DFM Spec Optimize Data | 定义与 DFM Spec Optimize 配合使用的优化表达式。需要 Calibre YieldEnhancer 许可证。 |
| DFM Spec Random Spot Fault | 定义随机点缺陷规范，可在 DFM CAF 和 DFM GCA 操作中引用。 |
| DFM Spec Spatial Sample | 定义一种规范，用于快速估算全芯片关键区域。 |
| DFM Spec Via | 定义过孔规范，可被 DFM Transition USEVIAS 使用。 |
| DFM Spec Via Redundancy | 定义过孔冗余分析规范，可在 DFM Redundant Vias 操作中引用。 |
| DFM Spec Via Shift | 指定过孔偏移值和约束，以改善过孔位置和金属覆盖。由 DFM Via Shift 引用。 |
| DFM Summary Report | 启用为 calibre -dfm 运行创建包含摘要报告的文件。 |
| DFM Unselect Check | 指定在 -dfm 模式下运行 Calibre 时不执行的 DFM 规则检查。 |
| DFM YS Autostart | 允许规则文件中的 Tcl 代码在 calibre -dfm 运行后自动执行，或在 YieldServer 运行前自动执行。 |
7.2 DRC 指定语句
本部分列出 Calibre nmDRC 指定语句。这是一类用于设置或修改 Calibre nmDRC 系统操作参数的指定语句。
除特别说明外，表 3-8 中的语句适用于所有 Calibre nmDRC 应用。
表 3-8 指定语句：DRC
| 语句 | 描述 |
|---|---|
| DRC Auto Error | 指定是否通过忽略 REGION 关键字，自动为尺寸规则检查生成错误导向的输出。 |
| DRC Boolean Nosnap45 | 指定对具有 45 度边缘的合并层执行网格捕捉的方式。 |
| DRC Cell Name | 指定是否将与每个 DRC 结果关联的单元名称附加到 ASCII DRC 结果数据库的签名行中。仅 Calibre nmDRC-H 可用。 |
| DRC Cell Text | 指定是否在输入版图数据库的整个层次结构中读取连通性提取文本。仅 Calibre nmDRC-H 可用。 |
| DRC Check Map | 指定 DRC 如何为指定的规则检查输出结果。用于生成 GDSII、OASIS 或 ASCII 结果数据库。 |
| DRC Check Text | 为 Calibre nmDRC 执行指定 DRC 规则检查文本映射模式。在 ICverify 中，为 $check_drc() 函数设置初始结果数据库文本映射模式默认值。 |
| DRC Exclude False Notch | 最大限度地减少在 Calibre nmDRC-H 单层 External 操作检查期间，报告缺口假错误的可能性。强烈建议在生产规则文件中不要使用 YES 选项。 |
| DRC Extend Trivial Edge | 指定在尺寸检查操作中，如何延伸微小边缘测量结果。 |
| DRC Incremental Connect | 为天线检查和相关应用启用增量连通性提取。 |
| DRC Incremental Connect Warning | 控制在 DRC Incremental Connect YES 流程中出现的 [Not] Net 操作的连通性提取警告的生成。 |
| DRC Keep Empty | 指定在 Calibre nmDRC 执行中是否保留空规则检查。在 ICverify 中，为 $check_drc() 函数设置初始默认值，以控制是否将包含零结果的规则检查写入结果数据库。 |
| DRC Magnify Density | 为 Density RDB 数据库指定默认放大因子。 |
| DRC Magnify NAR | 为 Net Area Ratio RDB 数据库指定默认放大因子。 |
| DRC Magnify Results | 指定 Calibre nmDRC 输出 DRC 结果数据库时，按给定值对其进行放大。 |
| DRC Map Text | 指定将输入版图数据库中的文本对象传输到掩模结果数据库。仅 Calibre nmDRC-H 可用。 |
| DRC Map Text Depth | 为 DRC Map Text YES 指定语句，指定读取文本对象的层次深度。 |
| DRC Map Text Layer | 指定将文本对象映射到 Calibre nmDRC-H 掩模结果数据库的层。 |
| DRC Maximum Cell Name Length | 指定 GDSII 和 OASIS DRC 结果数据库中单元（和布局）名称的最大长度。仅 Calibre nmDRC-H 可用。 |
| DRC Maximum Results | 为 Calibre nmDRC 执行指定 Calibre nmDRC 规则检查的最大结果计数。在 ICverify 中，为 $check_drc() 函数设置初始默认最大值，即每个规则检查语句可放置在结果数据库中的结果数量。 |
| DRC Maximum Results NAR | 为 Net Area Ratio 语句中 RDB [ONLY] 参数未明确指定 MAXIMUM 关键字时，指定默认值。 |
| DRC Maximum Unattached Label Warnings | 指定 DRC 中连通性提取模块发出的未附着标签警告的最大数量。 |
| DRC Maximum Vertex | 指定写入 DRC 结果数据库的任何多边形结果的最大顶点数。仅 Calibre nmDRC/Calibre nmDRC-H 可用。 |
| DRC Print Area | 为每个指定层计算平面面积，并在生成指定层时将其打印到日志中。仅 Calibre nmDRC/Calibre nmDRC-H 可用。 |
| DRC Print Extent | 计算指定层的左下角和右上角坐标，并在生成指定层时将其打印到日志中。仅 Calibre nmDRC/Calibre nmDRC-H 可用。 |
| DRC Print Perimeter | 为每个指定层计算平面周长，并在生成指定层时将其打印到日志中。仅 Calibre nmDRC/Calibre nmDRC-H 可用。 |
| DRC Results Database | 指定 Calibre nmDRC 结果数据库的文件名和类型。仅 Calibre nmDRC/Calibre nmDRC-H 可用。 |
| DRC Results Database Libname | 指定 GDSII 结果数据库的 LIBNAME 记录。 |
| DRC Results Database Precision | 指定 Calibre nmDRC 结果数据库中的精度值。对输出到数据库的坐标值无影响。 |
| DRC Select Check | 指定要执行的规则检查或检查组。 |
| DRC Select Check By Layer | 按层名称指定要执行的规则检查。 |
| DRC Summary Report | 指定 DRC 摘要报告的文件名和写入方式。在 ICverify 中，为 $check_drc() 函数设置初始摘要报告文件名和文件打开模式。 |
| DRC Tolerance Factor | 为尺寸检查测量约束（External、Internal 和 Enclosure）指定公差因子。 |
| DRC Tolerance Factor NAR | 为对比 Net Area Ratio 计算值与约束值指定公差。 |
| DRC Unselect Check | 指定要从运行中排除的规则检查或检查组。 |
| DRC Unselect Check By Layer | 按层名称指定要从运行中排除的规则检查。 |
| Group | 为一组规则检查语句命名。 |
7.3 ERC 指定语句
本部分列出电气规则检查（ERC）指定语句。这些指定语句设置 ERC 系统的操作参数。ERC 作为 LVS 的一部分执行。
表 3-9 指定语句：ERC
| 语句 | 描述 |
|---|---|
| ERC Cell Name | 指定是否将与每个 ERC 结果关联的单元名称附加到 ASCII ERC 结果数据库的签名行中。仅 Calibre nmLVS-H 可用。 |
| ERC Check Text | 指定要出现在 ERC 结果数据库中的注释的数量和类型。 |
| ERC Keep Empty | 指定是否在 ERC 结果中保留空规则检查（结果数为零的规则检查）。 |
| ERC Maximum Results | 指定 ERC 中单个规则检查的最大结果数。 |
| ERC Maximum Vertex | 指定写入 ERC 结果数据库的任何 ERC 结果多边形的最大顶点数。 |
| ERC Path Also | 允许将电容、二极管和双极晶体管视为 ERC 路径检查中 "路径" 的一部分。 |
| ERC Pathchk | 报告版图中存在或不存在到电源、地或带标签网络的路径，或满足这些条件组合的网络。推荐使用 Pathchk 而非 ERC Pathchk 语句。 |
| ERC Results Database | 指定 ERC 结果数据库的路径名。 |
| ERC Select Check | 选择要由 ERC 执行的规则检查语句和规则检查组。 |
| ERC Summary Report | 指定 ERC 报告的文件名和写入方式。 |
| ERC TVF | 为下游仿真工具生成器件属性。 |
| ERC Unselect Check | 指定不被 ERC 流程执行的规则检查语句和规则检查组。 |
| Group | 为一组规则检查语句命名。 |
| LVS Execute ERC | 指定 Calibre nmLVS 是否执行 ERC。 |
7.4 版图数据库指定语句
本部分列出版图数据库指定语句。这些语句用于描述版图数据库的内容、路径名、版图对象的操作、版图中错误条件的全局标记、单元和层的层次管理以及版图输入控制。
除特别说明外，这些语句适用于所有 Calibre 和 ICverify 应用。
表 3-10 指定语句：版图数据库
| 语句 | 描述 |
|---|---|
| Exclude Acute | 指定要从 Flag Acute 和 Drawn Acute 检查中排除的层。ICverify 中不使用。 |
| Exclude Angled | 指定要从 Flag Angled 和 Drawn Angled 检查中排除的层。ICverify 中不使用。 |
| Exclude Cell | 指定不进行处理的版图单元。 |
| Exclude Offgrid | 指定要从 Flag Offgrid 和 Drawn Offgrid 检查中排除的层。ICverify 中不使用。 |
| Exclude Skew | 指定要从 Flag Skew 和 Drawn Skew 检查中排除的层。ICverify 中不使用。 |
| Expand Cell | 指定其实例要在层次结构中展平一级到父单元空间中的单元。用于分层 Calibre 应用。 |
| Expand Cell Text | 指定源单元布局中的文本要在版图层次结构的更高层级中使用。用于分层 Calibre 应用。 |
| Flag Acute | 指定将锐角信息输出到运行日志。仅读取运行实际需要的层。 |
| Flag Angled | 指定将与数据库轴不垂直的边缘信息输出到运行日志。仅读取运行实际需要的层。ICverify 中不使用。 |
| Flag Nonsimple [Polygon] | 指定将非简单多边形信息输出到运行日志。仅读取运行实际需要的层。ICverify 中不使用。 |
| Flag Nonsimple Path | 指定将非简单路径信息输出到运行日志。仅读取运行实际需要的层。ICverify 中不使用。 |
| Flag Offgrid | 指定将离网顶点信息输出到运行日志。仅读取运行实际需要的层。 |
| Flag Skew | 指定将倾斜边缘信息输出到运行日志。倾斜边缘不包括 45 度边缘。仅读取运行实际需要的层。 |
| Flatten Cell | 指定其实例要展平到父单元空间中的单元。仅用于分层 Calibre 应用。 |
| Flatten Inside Cell | 指定在分层数据库构建阶段，参数列表中每个单元的内部层次结构要被展平。仅用于分层 Calibre 应用。 |
| Layer | 指定要在规则文件中使用的输入层名称和编号。 |
| Layer Directory | 为基于磁盘的层指定目录。Calibre nmLVS 或 Calibre xRC 应用中不使用。 |
| Layer Map | 指定从 GDSII 或 OASIS 输入到 Calibre 层编号的数据类型或文本类型映射。ICverify 中不使用。 |
| Layer Resolution | 在 Flag Offgrid、Drawn Offgrid 或 ICrules CHEck DRc -FLAGOFFGRID 选项的离网顶点检查期间，覆盖任何数量原始层的默认 Resolution 指定语句参数。 |
| Layout Allow Duplicate Cell[s] | 指定是否允许同一版图单元的多个记录。ICverify 中不使用。 |
| Layout Base Cell | 为门阵列设计指定基础单元名称。仅用于分层 Calibre 应用。 |
| Layout Base Layer | 指定在确定设计风格时要考虑的层。仅用于分层 Calibre 应用 。与 Layout Top Layer 相对应。 |
| Layout Bump2 | 指定数据库中的层编号增加一个指定值。用于双数据库功能。ICverify 中不使用。 |
| Layout Case | 指定是否以区分大小写的方式处理版图。DRC 应用中不使用。 |
| Layout Cell List | 为使用单元特定处理的语句指定单元列表。仅用于分层 Calibre 应用。 |
| Layout Clone By Layer | 指定在分层数据库（HDB）构建阶段，如果单元被某一层标记，则对其进行克隆。 |
| Layout Clone Rotated Placements | 指定在 HDB 构建期间，是否对旋转 90 或 270 度的单元进行克隆。 |
| Layout Clone Transformed Placements | 指定在 HDB 构建期间，是否对所有旋转或变换的单元使用单元克隆。 |
| Layout Depth | 指定从版图数据库读取图形的层次深度。ICverify 中不使用。 |
| Layout Dummy Layer | 指定虚拟填充层，以便在分层数据库构建期间进行优化处理。 |
| Layout Error On Input | 指定读取版图数据库时报告的某些警告是否要成为致命错误。ICverify 中不使用。 |
| Layout Ignore Layer | 指定将 GDSII 或 OASIS 版图输入数据库中的一个或多个指定层视为几何空层。 |
| Layout Ignore Text | 指定丢弃给定列表中单元的版图数据库文本。仅用于分层 Calibre 应用。 |
| Layout Input Exception RDB | 指定用于存储来自指定 Layout Input Exception Severity 语句的异常对象的结果数据库。 |
| Layout Input Exception Severity | 指定如何处理版图输入异常。ICverify 中不使用。 |
| Layout Magnify | 指定在将输入版图数据库读取到 Calibre 应用时，按给定值对其进行放大。 |
| Layout Merge On Input | 指示版图读取器在将流读取到内存时，按单元、按层合并多边形。ICverify 中不使用。 |
| Layout Net List | 为 DFM CAF 操作指定网络名称列表。 |
| Layout Path | 为 Layout System 语句指定的数据库类型，指定版图数据库路径名。ICverify 中不使用。 |
| Layout Path Extension Multiple | 指定一个值，用于检测在网格转换后，路径延伸是否为新数据库单位的奇数倍。 |
| Layout Path Width Multiple | 指定一个倍数，用于检测在网格转换后，完整路径宽度是否为新数据库单位的奇数倍。 |
| Layout Path2 | 为 Layout System2 语句中的数据库类型，指定版图数据库路径名。用于双数据库对比。ICverify 中不使用。 |
| Layout Place Cell | 指定根据此语句中给出的参数构造 GDSII 或 OASIS 数据库。 |
| Layout Polygon | 允许在规则文件中直接指定原始数据库图形。仅 Calibre 可用。 |
| Layout Precision | 允许指定备用精度值，用于在 Calibre 中检查输入版图数据库的精度。 |
| Layout Preserve Cell List | 指定在 Calibre nmLVS-H 的电路提取期间，保护某些版图单元免受大多数层次修改（包括自动展平）的影响。 |
| Layout Primary | 为 Calibre 指定版图数据库顶层单元名称。ICverify 中不使用。 |
| Layout Primary2 | 为 Calibre 中的第二个数据库指定版图数据库顶层单元名称。用于双数据库对比。ICverify 中不使用。 |
| Layout Process Box Record | 指定是否处理 GDSII 输入版图数据库中的 BOX 和 BOXTYPE 记录。ICverify 中不使用。 |
| Layout Process Node Record | 指定是否处理 GDSII 输入版图数据库中的 NODE 和 NODETYPE 记录。ICverify 中不使用。 |
| Layout Property Audit | 指定要在 OASIS Calibre nmDRC 结果数据库中插入、附加或修改的属性名称和值。 |
| Layout Property Text | 指定将附加到图形的属性视为文本对象，其中 PROPVALUE 为文本对象的名称。仅 Calibre 可用。 |
| Layout Property Text OASIS | 指定将 OASIS 属性视为输入版图数据库文本。仅 Calibre 可用。 |
| Layout Rename All | 指定在多个输入文件的所有单元中使用唯一标识。仅 Calibre 可用。 |
| Layout Rename Cell | 指定要在几何输入版图数据库中重命名的单元。ICverify 中不使用。 |
| Layout Rename ICV | 指定在多个输入文件中使用克隆单元的唯一标识。仅 Calibre 可用。 |
| Layout Rename Clone | 指定在多个文件中使用 ICV 单元的唯一标识。仅 Calibre 可用。 |
| Layout Rename Text | 指定要编辑或替换的文本值。该语句在读取文本值时对其进行编辑。ICverify 中不使用。 |
| Layout System | 指定版图数据库格式。ICverify 中不使用。 |
| Layout System2 | 指定第二个版图数据库的格式。用于双数据库对比。ICverify 中不使用。 |
| Layout Text | 在规则文件中直接指定版图数据库文本。ICverify 中不使用。 |
| Layout Text File | 指定包含版图文本对象的文件。当需要指定大量文本对象时使用。ICverify 中不使用。 |
| Layout Top Layer | 指定在区分设计风格时要忽略的层。用于分层 Calibre 应用 。与 Layout Base Layer 相对应。 |
| Layout Use Database Precision | 指定使用输入数据库精度，而非规则文件精度。 |
| Layout Windel | 指定一个区域，用于定义排除在规则检查中使用的输入图形和文本。ICverify 中不使用。 |
| Layout Windel Cell | 指定一个单元名称列表，其布局范围用于排除在规则检查中使用的输入图形和文本。ICverify 中不使用。 |
| Layout Windel Layer | 指定一个层列表，其图形用于排除在规则检查中使用的输入图形和文本。ICverify 中不使用。 |
| Layout Window | 指定一个区域，用于定义包含在规则检查中使用的输入图形和文本。ICverify 中不使用。 |
| Layout Window Cell | 指定一个单元名称列表，其布局范围用于包含在规则检查中使用的输入图形和文本。ICverify 中不使用。 |
| Layout Window Clip | 指定基于面积的过滤是否仅限于严格位于窗口区域内的部分。ICverify 中不使用。 |
| Layout Window Layer | 指定一个层列表，其图形用于包含在规则检查中使用的输入图形和文本。ICverify 中不使用。 |
| Polygon | 在规则文件中直接指定原始数据库图形。 |
| Port Depth | 指定读取端口对象以用于顶层单元的层次深度。ICverify 或 Calibre nmDRC 应用中不使用。 |
| Port Layer Polygon | 指定要视为几何端口的图形。ICverify 或 Calibre nmDRC 应用中不使用。 |
| Port Layer Text | 指定要视为文本端口的文本对象。ICverify 或 Calibre nmDRC 应用中不使用。 |
| Precision | 定义数据库单位与用户单位的比率。 |
| Push Cell | 指定其布局要被完全展平，然后由分层 Calibre 应用推送到最低可能层级的单元名称。 |
| Resolution | 定义版图网格步长（原始几何图形需要对齐的数据库单位数）。 |
| Snap Offgrid | 指定原始层图形的顶点要放置在由 Resolution 或 Layer Resolution 语句定义的网格上。 |
| SVRF FDI Options | 为支持第三方数据库的 Calibre 工具，指定用于控制第三方数据库读取的 FDI 选项。 |
| Text | 在规则文件中直接指定顶层版图数据库文本对象（独立文本）。同时允许编辑从版图数据库中读取的文本对象。 |
| Text Depth | 为连通性提取器，指定从版图数据库读取文本对象的层次深度。 |
| Text Layer | 指定从数据库中读取连通性提取文本的层。 |
7.5 LVS 指定语句
本部分列出 LVS 指定语句。这些语句用于版图与原理图对比检查。
表 3-11 指定语句：LVS
| 语句 | 描述 |
|---|---|
| Device | 定义要识别并用于 LVS 对比的器件。本质上不是指定语句，但被 LVS 流程使用。 |
| ERC TVF | 为下游仿真工具生成器件属性。 |
| Hcell | 指定一对子电路 ------ 一个来自版图，一个来自源 ------ 它们相互对应。 |
| Layout Dummy Layer | 指定虚拟填充层，以便在分层数据库构建期间进行优化处理。 |
| Layout Preserve Case | 指定在电路提取期间，仅大小写不同的匹配网络或器件属性名称是被视为相同还是不同。 |
| LVS Abort On ERC Error | 指定当 ERC Select Check 语句中指定了 ABORT LVS 关键字时，LVS 是否终止。仅 Calibre nmLVS/Calibre nmLVS-H 和 Calibre PERC 应用可用。 |
| LVS Abort On Softchk | 指定如果发现 Softchk 违规，是否中止处理。 |
| LVS Abort On Supply Error | 指定当连通性提取检测到电源或地网络存在问题时，是否中止处理。ICverify 中不使用。 |
| LVS All Capacitor Pins Swappable | 指定在 LVS 对比期间，电容引脚是否应被视为可交换。在 ICverify 中，设置应用变量 lvs_all_capacitor_pins_swappable 的值。 |
| LVS Annotate Devices | 指定用存储在注释层上的属性对提取的器件图形进行注释。 |
| LVS Apply Unused Filter | 指定对列表中指定的一组单元应用未使用器件过滤器。 |
| LVS Auto Expand Hcells | 指定在分层电路提取期间，是否自动展平 hcell 以优化性能。 |
| LVS Black Box Port | 为 LVS Box BLACK 语句定义端口对象。 |
| LVS Black Box Port Depth | 定义在 LVS Box BLACK 单元中识别端口的层次级别。 |
| LVS Box | 指定其内容不进行对比的单元。 |
| LVS Box Cut Extent | 指定在 LVS Box BLACK 和 GRAY 流程中，如何处理使用基于 Extent 的操作导出的层。 |
| LVS Box Peek Layer | 指定 LVS Box BLACK 和 GRAY 单元中的原始层，这些层可以与其上层层次结构中的层相互作用并参与层导出。 |
| LVS Builtin Device Pin Swap | 指定 LVS 是否应在内置 M 和 R 器件中应用默认引脚可交换性规则。 |
| LVS Builtin MOS NRD_NRS | 指定在并行 MOS 简化期间，NRD/NRS 属性是否被视为内置属性。 |
| LVS Cell List | 为 LVS 规则的覆盖指定单元列表。仅 Calibre nmLVS-H 和 Calibre PERC 可用。 |
| LVS Cell Supply | 控制电源网络名称从低层网络的传播。仅 Calibre nmLVS-H 和 Calibre PERC 可用。 |
| LVS Center Device Location | 识别居中的器件位置坐标。 |
| LVS Center Device Pins | 为 Calibre CCI 识别居中的引脚位置坐标。 |
| LVS Check Port Names | 指定是否检查匹配端口的名称。 |
| LVS Clone By LVS Box Cells | 指定是否克隆同时放置在 Box 单元外部的常规 LVS Box 单元的子单元。 |
| LVS Compare Case | 控制名称对比中的大小写敏感性。 |
| LVS Component Subtype Property | 指定用于确定源实例组件子类型的属性名称。设置 ICtrace 变量 lvs_component_subtype_property 的值。 |
| LVS Component Type Property | 指定用于确定源实例组件类型的属性名称。设置 ICtrace 变量 lvs_component_type_property 的值。 |
| LVS Configure Unused Filter | 指定单元特定的未使用器件过滤器。 |
| LVS Cpoint | 指定版图与源之间的对应点。 |
| LVS DB Layer | 指定要合并并保存到持久分层数据库（PHDB）中的层名称。 |
| LVS DB Connectivity Layer | 指定要合并并与其节点信息一起保存到持久分层数据库中的连通性层。 |
| LVS Device Type | 指定具有非内置器件名称的实例，在 ERC 和 LVS 对比中被视为内置器件的实例。此语句不会重命名器件。 |
| LVS Discard Pins By Device | 指定是否应检查规则文件中的 Device 操作，以便在电路对比期间从输入器件中丢弃多余的引脚。 |
| LVS Downcase Device | 指定对 Device 元素名称、模型名称和引脚名称使用小写表示。 |
| LVS EDDM Process M | 指定 ICtrace 对 EDDM 数据库中的其他属性应用 M 属性。 |
| LVS Exact Subtypes | 指定在初始匹配中，电路对比是否同时使用器件类型和子类型。 |
| LVS Exclude Hcell | 指定在任何情况下都要忽略的 hcell。这些 hcell 也会被 Query Server 忽略。 |
| LVS Execute ERC | 指定在电路提取阶段是否执行 ERC 操作。 |
| LVS Expand Ambiguously High Shorted Hcells | 指定是否展平在多对一配置中匹配且导致 LVS 对比假差异的高短路 hcell。 |
| LVS Expand Seed Promotions | 指定是否展平在分层器件识别期间经历种子提升的 hcell。 |
| LVS Expand Unbalanced Cells | 指定是否展平在源和版图中实例化次数不同的 hcell。 |
| LVS Filter | 过滤掉具有指定值属性的源和版图实例。 |
| LVS Filter Unused Bipolar | 指定是否过滤未使用的双极晶体管。 |
| LVS Filter Unused Capacitors | 指定是否过滤未使用的电容。 |
| LVS Filter Unused Diodes | 指定是否过滤未使用的二极管。 |
| LVS Filter Unused MOS | 指定是否过滤未使用的 MOS 晶体管。 |
| LVS Filter Unused Option | 控制未使用器件的过滤。 |
| LVS Filter Unused Resistors | 指定是否过滤未使用的电阻。 |
| LVS Flatten Inside Cell | 指定是否展平单元的内部层次结构。 |
| LVS Global Layout Name | 指定报告涉及全局版图信号的不一致连接。 |
| LVS Globals Are Ports | 指定全局网络是否被视为顶层单元的端口。 |
| LVS Gray Box Not Port | 指定在 LVS Box GRAY 单元中不能形成引脚的 Connect 或 Sconnect 层。 |
| LVS Ground Name | 指定地网络名称列表。 |
| LVS Ignore Device Pin | 指定 LVS 对比是否应忽略指定器件的某些引脚。 |
| LVS Ignore Ports | 指定 LVS 对比算法是否应忽略端口。 |
| LVS Ignore Trivial Named Ports | 控制对未连接到任何器件且在设计的其他地方具有对应名称的低层单元端口的处理。 |
| LVS Inject Logic | 指定是否执行逻辑注入。 |
| LVS Isolate Shorts | 指定是否启用以文本隔离短路。 |
| LVS Layout Disable High Shorts Cell List | 禁用指定单元中单元引脚的高短路。 |
| LVS Map Device | 指定将原始器件组件类型和子类型映射到不同的类型和子类型。 |
| LVS MOS Swappable Properties | 指定可交换的、用户定义的源极和漏极引脚属性。 |
| LVS Netlist All Texted Pins | 指定是否对内部浮空的、带文本的引脚进行网表提取。 |
| LVS Netlist Allow Inconsistent Model | 指定允许某些 MOS 器件使用与 Device 语句约定不一致的模型名称。不建议使用 YES。 |
| LVS Netlist Box Contents | 指定是否将版图 LVS Box 单元的内部内容写入输出网表。 |
| LVS Netlist Builtin Property Conversion | 指定 Calibre SPICE 和 Calibre Connectivity Interface 网表提取器如何写入内置器件的属性。 |
| LVS Netlist Comment Coded Properties | 指定电路网表提取器是否应使用注释编码参数 A 和 P（用于电容）或 W 和 L（用于双极晶体管）。 |
| LVS Netlist Comment Coded Substrate | 指定电路网表提取器是否应使用注释编码参数 $SUB 来表示三引脚二极管、电容、电阻和四引脚双极器件中的衬底引脚。 |
| LVS Netlist Connect Port Names | 指定当端口名称（来自 Port Layer Text）与单元中的任何网络名称或端口名称不同时，电路提取器是否应将端口顶层名称连接到顶层单元中的网络。 |
| LVS Netlist Internally Floating Pins | 指定是否将内部浮空的单元引脚写入提取的版图网表。 |
| LVS Netlist Property | 指定在网表提取期间，表现为 LVS 可操作属性的 Device 属性。 |
| LVS Netlist Unnamed Box Pins | 指定电路网表提取器是否在输出网表中包含 LVS Box 单元的某些未命名引脚。 |
| LVS Netlist Unnamed Isolated Nets | 控制在提取的版图 SPICE 网表中保留未命名的、孤立的版图网络。 |
| LVS NL Pin Locations | 控制由 -nl 命令行选项创建的平面版图网表。指示平面应用在 -nl 网表中输出用户定义器件的引脚位置和相关信息。 |
| LVS Non User Name | 指定不应被视为用户给定名称的实例、网络或端口名称（电源或地名称除外），即使它们在其他方面符合用户给定名称的标准。 |
| LVS Out Of Range Exclude Zero | 指定当属性值为零时，如何处理 Trace Property ... ABSOLUTE 公差警告。 |
| LVS Pathchk Maximum Results | 指定 ERC Pathchk 语句和 Pathchk 操作输出的多边形数量上限。 |
| LVS Pin Name Property | 指定优先级列表，包含零个或多个 ICtrace 属性名称，用于确定源实例引脚的引脚名称。 |
| LVS Power Name | 指定电源网络名称列表。 |
| LVS Precise Interaction | 指定在分层器件识别期间，是否计算精确的相互作用区域。 |
| LVS Prefer Nets | 指定在由于 LVS Filter SHORT 处理而在 LVS 变换期间为短路的网络分配名称时，优先选择的网络名称。 |
| LVS Prefer Port Nets | 指定在电路变换后，端口网络作为保留网络的优先级。 |
| LVS Preserve Box Cells | 指定如何将 LVS Box 单元内容写入提取的版图网表。 |
| LVS Preserve Box Ports | 指定在高短路解析期间，如何处理 LVS Box 单元端口。 |
| LVS Preserve Floating Top Nets | 控制在提取的版图 SPICE 网表中保留浮空的、命名的顶层网络。 |
| LVS Preserve Parameterized Cells | 防止参数化子电路被展平。 |
| LVS Property Initialize | 指示工具在内存中的版图和源数据库中，同时向实例添加数值属性，并将这些属性初始化为指定值。 |
| LVS Property Map | 指示工具在指定的输入数据库中重新映射属性名称。 |
| LVS Property Resolution Maximum | 指定 Calibre nmLVS 使用属性值来解析所有包含不超过最大元素数量的模糊元素组。 |
| LVS Push Devices | 指定在种子提升后，是否将器件种子多边形向下推送到层次结构中。 |
| LVS Recognize Gates | 指定是否从晶体管级数据中识别逻辑门。 |
| LVS Recognize Gates Tolerance | 指定是否使用器件属性公差检查来限制门识别。 |
| LVS Reduce | 指定通用器件简化指令。 |
| LVS Reduce Parallel Bipolar | 指定是否将并联的双极晶体管简化为单个晶体管。 |
| LVS Reduce Parallel Capacitors | 指定是否将并联的电容器件简化为单个电容。 |
| LVS Reduce Parallel Diodes | 指定是否将并联的二极管简化为单个二极管。 |
| LVS Reduce Parallel MOS | 指定是否将并联的 MOS 晶体管简化为单个晶体管。 |
| LVS Reduce Parallel Resistors | 指定是否将并联的电阻器件简化为单个电阻。 |
| LVS Reduce Semi Series MOS | 指定是否将包括具有旁路网络的串联 MOS 器件简化。 |
| LVS Reduce Series Capacitors | 指定是否将串联的电容器件简化为单个电容。 |
| LVS Reduce Series MOS | 指定是否将串联的 MOS 器件简化。 |
| LVS Reduce Series Resistors | 指定是否将串联的电阻器件简化为单个电阻。 |
| LVS Reduce Split Gates | 指定是否将形成为串行向上或串行向下结构的 MOS 分裂栅极简化为单个栅极结构。 |
| LVS Reduction Priority | 指定当同一组器件可能同时进行串联和并联简化时，执行哪种类型的器件简化。 |
| LVS Report | 指定 LVS 报告的路径名。此语句是 LVS 对比所必需的。 |
| LVS Report Maximum | 指定 LVS 在其报告的各个部分中打印的项目数量上限。 |
| LVS Report Option | 控制 LVS 报告的详细程度和内容。 |
| LVS Report Pinswapped | 指定器件实例的交换引脚是否在 LVS 报告中生成错误。 |
| LVS Report Trivial Ports | 指定在分层网表提取期间，是否将微小端口作为警告报告。 |
| LVS Report Units | 指定是否应随内置器件属性值一起报告单位。 |
| LVS Report Warnings Hcell Only | 指定是否仅对未在 hcell 文件或 Hcell 语句中指定的单元报告连通性提取警告。 |
| LVS Report Warnings Top Only | 指定是否将电路提取警告限制在顶层。 |
| LVS Reverse WL | 指定在 SPICE 网表和 EDDM 及 Direct Mode ICverify 设计中的类 SPICE 属性中，反转 MOS 器件的默认 L、W 顺序。 |
| LVS Select Device By Seed Layer | 将器件识别限制为使用具有指定种子层的 Device 语句。 |
| LVS Short Equivalent Nodes | 指定是否在 MOSFET 分裂栅极结构中，将等效节点短路。 |
| LVS Show Seed Promotions | 指定是否查找设计中，器件由不同层次结构的多边形相互作用形成的实例。 |
| LVS Show Seed Promotions Maximum | 指定由 LVS Show Seed Promotions 语句执行的任何检查中出现的最大多边形数量。 |
| LVS Signature Maximum | 指定签名算法为不大于最大尺寸的邻域计算签名。 |
| LVS Soft Substrate Pins | 指定衬底和体引脚对电路元素的匹配方式是否具有标准影响。 |
| LVS Softchk | 选择来自所有 Sconnect 操作的、涉及冲突连接的多边形。 |
| LVS Softchk Maximum Results | 指定在 softchk 结果数据库中报告的多边形数量。 |
| LVS Spice Allow Duplicate Subcircuit Names | 指定 SPICE 解析器是允许重复的子电路定义并发出警告，还是禁止重复。 |
| LVS Spice Allow Floating Pins | 指定是否允许 SPICE 网表中的子电路调用存在浮空引脚。 |
| LVS Spice Allow Inline Parameters | 指定是否允许 SPICE 网表中的子电路调用（X 调用）使用内联参数引用。 |
| LVS Spice Allow Unquoted Strings | 指定 SPICE 解析器是否应允许参数分配中使用未加引号的字符串值。 |
| LVS Spice Conditional LDD | 指定 SPICE 读取器如何处理 M 元素中的 $LDD 指示符。 |
| LVS Spice Cull Primitive Subcircuits | 指定是否忽略名称未出现在规则文件中的原始子电路。 |
| LVS Spice Exclude Cell | 指定忽略 SPICE 网表中的子电路调用。 |
| LVS Spice Implied MOS Area | 指定是否为 SPICE 网表中的 "M" 元素计算隐含的器件面积。 |
| LVS Spice Multiplier Name | 指定在 SPICE 网表中用作倍增因子的参数名称，而非标准 SPICE 参数名称 M。 |
| LVS Spice Option | 指定 SPICE 解析器的警告和重复子电路处理行为。 |
| LVS Spice Override Globals | 指定在 SPICE 网表中，引脚分配是否覆盖全局信号。 |
| LVS Spice Prefer Pins | 指定在解析 SPICE 网表中的网络名称时，是否优先选择子电路引脚而非全局网络。 |
| LVS Spice Redefine Param | 指定 .PARAM 值是否可以在 SPICE 网表中重新定义。 |
| LVS Spice Rename Parameter | 指定重命名 SPICE 参数。 |
| LVS Spice Replicate Devices | 指定 SPICE 解析器是否应复制具有 M 参数的器件元素。 |
| LVS Spice Scale X Parameters | 指定 SPICE 网表中的 .OPTIONS SCALE 因子是否应用于实例化为 X 元素的内置器件。 |
| LVS Spice Slash Is Space | 指定在 SP |
表 3-14 规格语句：PEX 电感
| 语句 | 描述 |
|---|---|
| Inductance Wire | 指定用于计算键合线自感的参数。 |
| PEX Generate Driver File Tag | 指示 Calibre xRC 工具生成驱动端和接收端文件。 |
| PEX Ground | 指定电感提取过程中需要考虑的一个或多个地网络名称。 |
| PEX Inductance Default Partial Model | 对于长度为 2 微米及以上且附近无返回路径的走线，指定计算其自阻抗时使用部分电感（PI）还是单位长度电感（PUL）。 |
| PEX Inductance Differential Pair | 指定作为差分对工作的两个网络。 |
| PEX Inductance Driver File | 指定驱动端和接收端文件的存储位置。 |
| PEX Inductance Driver Summary | 指定是否将驱动端摘要信息输出至运行日志。 |
| PEX Inductance Extract Layers | 指定电感提取过程中仅处理指定层上的几何图形。 |
| PEX Inductance Filter | 指定是否对电感提取的走线进行过滤。 |
| PEX Inductance Forward Coupling | 指定自阻抗的正向耦合计算是否开启。 |
| PEX Inductance Frequency | 为设计中所有信号网络的电感提取，指定全局最大工作频率。 |
表 3-13 规格语句：PEX（续）
| 语句 | 描述 |
|---|---|
| （规则文件元素摘要） | |
| PEX 电感规格语句 | |
| 标准验证规则格式（SVRF）手册，v2019.3 第 151 页 | |
| 注 - 在网页浏览器中查看 PDF 文件会导致部分链接失效。请使用 HTML 格式以实现完整导航。 | |
| PEX Inductance ... Frequency | 指定频率与全局最大工作频率不同的网络。 |
| PEX Inductance Layer Summary | 指定是否将层摘要信息输出至运行日志。 |
| PEX Inductance Max Returns | 指定电感计算中使用的最大返回路径数量。 |
| PEX Inductance MICHECK Constraint | 控制互耦合的输出。 |
| PEX Inductance Minlength | 指定准确计算自感所需的最小走线长度。 |
| PEX Inductance Mode | 指定 Calibre xL 使用的电感提取模式。若未指定此语句，Calibre xL 默认运行环路电感提取模式。 |
| PEX Inductance Parameters | 指定计算大型封装过孔自感时使用的参数。 |
| PEX Inductance Range | 指定从给定网络段搜索返回路径的范围，这些返回路径将纳入自阻抗计算。 |
| PEX Inductance Returnpath | 指定电感提取中可作为返回路径候选的网络类型（地或电源）。 |
| PEX Inductance Same Net Mutual | 启用同一网络内导线段之间的互感提取，例如堆叠金属结构中的互感。 |
| PEX Inductance Self | 指定经过过滤的导线段所使用的自感值。 |
| PEX Inductance Skin Include | 指定纳入趋肤效应计算的一个或多个网络。 |
| PEX Inductance Switch Time | 为设计中所有网络指定全局开关时间。 |
| PEX Inductance ... Switch Time | 指定开关时间与全局开关时间不同的网络。 |
| PEX Inductance Victim | 指定受扰网络名称。 |
| PEX Inductance Victim Path | 指定与受扰网络关联的受扰走线。 |
| PEX Netlist Mutual Resistance | 指定是否使用电流控制电压源对互电阻进行建模。 |
表 3-14 规格语句：PEX 电感（续）
| 语句 | 描述 |
|---|---|
| （规则文件元素摘要） | |
| 152 标准验证规则格式（SVRF）手册，v2019.3 | |
| 单位规格语句 | |
| 注 - 在网页浏览器中查看 PDF 文件会导致部分链接失效。请使用 HTML 格式以实现完整导航。 |
7.6 单位规格语句
本节列出单位规格语句，这些语句用于指定解释电容、长度、电阻和时间的相应数值时所采用的首选单位。表 3-15 中的语句仅适用于 Calibre nmLVS 和 PEX 应用。
7.7 其他规格语句
本节列出未在前面表格中提及的其余规格语句。
| 语句 | 描述 |
|---|---|
| PEX Power | 指定电感提取过程中需要考虑的一个或多个电源网络名称。 |
| PEX Report Mutual Inductance | 针对受扰文件或受扰 SVRF 语句指定的受扰网络，按网络生成互感报告，并将其存储在指定位置。 |
| Unit Inductance | 对于过孔和键合线的电感计算，将用户定义的首选电感单位与固定的标准电感单位（皮亨）相关联。 |
表 3-15 规格语句：单位
| 语句 | 描述 |
|---|---|
| Unit Capacitance | 提供器件计算的电容比例因子。 |
| Unit Inductance | 提供器件计算的电感比例因子。 |
| Unit Length | 提供器件计算的长度比例因子。此语句对规则文件精度或层操作测量约束无影响。 |
| Unit Resistance | 提供器件计算的电阻比例因子。 |
表 3-16 规格语句：其他
| 语句 | 描述 |
|---|---|
| Include | 将另一个文件包含到当前语句所在的规则文件中。 |
| Net Area Ratio Print | 将输入网络面积比累积（NARAC）信息打印到指定文件。 |
| SVRF DBdiff Options | 指定用于控制 Fast XOR 运行的 DBdiff 命令行选项。 |
| SVRF Error | 若在规则文件编译过程中遇到此语句，将发出编译器错误。 |
| SVRF Message | 若在规则文件编译过程中遇到此语句，将在运行日志中发出一条消息。 |
| SVRF Property | 在规则文件中定义一个与版图中 OASIS 属性对应的名称。 |
| SVRF Version | 定义允许编译该规则文件的最早 Calibre 版本。 |
| Text Print Maximum | 控制 Calibre 运行日志中打印的文本对象和端口数量。此语句在 ICverify 中不使用。 |
| Title | 为规则文件分配一个标题。该规则文件标题可附加到 Calibre nmDRC 结果数据库中的 DRC 结果上，也会出现在 Calibre nmDRC 应用生成的摘要报告中。 |
| Variable | 在规则文件中定义变量的值。 |