英文全称：Poly (styrene)-block-Poly (4-vinylpyridine)
简写：PS-b-P4VP
中文：聚苯乙烯 - b - 聚 4 - 乙烯基吡啶
一、两段链性能
- PS（聚苯乙烯） 高疏水硬链，Tg≈100 ℃，热稳定性好，耐等离子干法刻蚀，难以湿法腐蚀。
- P4VP（聚 4 - 乙烯基吡啶，对位吡啶） ① pH 响应：质子化区间 pH≈6.0~6.5（弱酸性）；碱性条件为疏水中性； ② 金属螯合：对位吡啶空间位阻极小，对 Au、Ag、Pt、Pd、Fe 离子配位能力远强于邻位 P2VP； ③ 选择性刻蚀：稀酸水溶液、碘蒸气可将 P4VP 相溶出； ④ 阳离子聚电解质，可层层自组装。
二、PS-b-P4VP VS PS-b-P2VP 核心区别
PS-b-P4VP 是高 χ 值两嵌段共聚物，对位吡啶 P4VP 相比 P2VP 拥有更强的金属螯合能力，质子化区间落在肿瘤弱酸性环境，更适合胞外刺激响应体系。 对称配比 PS25k-b-P4VP25k 退火形成规整层状条纹，不对称牌号形成垂直柱状纳米孔；P4VP 可被稀酸快速选择性刻蚀，制备低缺陷 BCP 自组装光刻模板。
PS-b-P4VP Polystyrene-block-poly(4-vinylpyridine）
聚苯乙烯 - b - 聚 (4 - 乙烯基吡啶)，二嵌段共聚物
ACA-PEG-P4VP丙烯酰胺-聚乙二醇-聚4-乙烯基吡啶
ACRL-PEG-P4VP丙烯酸酯-聚乙二醇-聚4-乙烯基吡啶
ACRL-PEG2k-P4VP2.5k
ACRL-PS10k-b-P4VP5k
ACRL-PS20k-b-P4VP6k
ACRL-PS20k-b-P4VP10k
ACRL-PS30k-b-P4VP12k
ACRL-PS40k-b-P4VP15k
Aminooxy-PEG-P4VP氨甲基-聚乙二醇-聚4-乙烯基吡啶
Br-PEG-P4VP溴化物-聚乙二醇-聚4-乙烯基吡啶
CHO-PEG-P4VP醛基-聚乙二醇-聚4-乙烯基吡啶
CHO-PEG2k-P4VP2.5k
CHO-PS10k-b-P4VP5k
CHO-PS20k-b-P4VP6k
CHO-PS20k-b-P4VP10k
CHO-PS30k-b-P4VP12k
CHO-PS40k-b-P4VP15k