Novellus 27-033321-00 涡轮分子泵
该型号为Novellus半导体设备中使用的涡轮分子泵，实际由Osaka Vacuum制造，型号为TG1133EMBW-07。
产品特点
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高真空性能：采用多级涡轮叶片设计，可实现高压缩比，为半导体工艺腔室提供稳定的高真空环境。
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无油洁净运行：磁悬浮轴承或干式润滑设计，避免油蒸汽污染，满足半导体工艺对洁净度的严苛要求。
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快速抽气能力：具备高抽速和快速启动特性，有效缩短工艺准备时间，提升产线效率。
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抗腐蚀设计：内部流道和转子采用特殊涂层或耐腐蚀材料，能够耐受CVD和刻蚀工艺中的腐蚀性气体。
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运行稳定可靠：内置振动抑制和温度补偿技术，确保持续运行时的稳定性，降低维护频率。
关键信息
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品牌：Novellus / 实际制造商：Osaka Vacuum。
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Novellus部件号：27-033321-00。
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对应Osaka型号：TG1133EMBW-07。
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配套设备：Novellus Concept 2 Sequel、Gamma Express等CVD及刻蚀设备。
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产地：日本。
应用领域
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化学气相沉积（CVD）工艺的真空系统配套。
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半导体刻蚀（Etch）设备的腔体真空维持。
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Novellus Sequel系列沉积反应器的真空环境控制。
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金属沉积、氧化物和氮化物薄膜工艺的真空供应。
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半导体设备维护升级中的泵组替换与配套。
简而言之，Novellus 27-033321-00是Novellus半导体设备中采用、Osaka Vacuum制造的涡轮分子泵，用于CVD和刻蚀等工艺的真空系统，以高真空性能和无油洁净运行为核心特点，是保障工艺腔室高真空环境的关键部件。
