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芯片设计实现

IC拓荒者
1 年前
芯片设计·数字ic后端·ic后端实现·芯片设计实现·innovus·低功耗设计·low power
数字后端设计实现 | 数字后端PR工具Innovus中如何创建不同高度的row?吾爱IC社区星球学员问题:Innovus后端实现时两种种不同高度的site能做在一个pr里面吗?答案是可以的。
IC拓荒者
2 年前
芯片设计·soc设计·数字ic后端·ic后端实现·芯片设计实现·模拟版图
数字IC后端实现 |TSMC 12nm 与TSMC 28nm Metal Stack的区别下图为咱们社区IC后端训练营项目用到的Metal Stack。芯片Tapeout Review CheckList 数字IC后端零基础入门Innovus学习教程 1P代表一层poly,10M代表有10层metal,M5x表示M2-M6为一倍最小线宽宽度的金属层,2y表示M7-M8为二倍最小线宽宽度的金属层,2z表示M9-M10为八倍最小线宽宽度的金属层。还有一层AP用来走RDL,RDL这层是最厚的,一般用于连接IO的bump,信号线基本上都不会用这层来绕线。如果用于绕线其实也绕不了几根,还容易有DRC问题