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数字IC后端实现之PR工具中如何避免出现一倍filler的缝隙？在数字IC后端实现中，由于有的工艺foundary不提供Filler1，所以PR工具Innovus和ICC2在做标准单元摆放时需要避免出现两个标准单元之间的缝隙间距是Filler1。为了实现这个目的，我们需要给PR工具施加一些特殊的placement constraint（典型案例就是咱们社区TSMC 28nm项目）。

数字后端零基础入门系列 | Innovus零基础LAB学习Day11（Function ECO流程）###LAB 20 Engineering Change Orders (ECO)这个章节的学习目标是学习数字IC后端实现innovus中的一种做function eco的flow。对于初学者，如果前面的lab还没掌握好的，可以直接跳过这节内容。有时间的同学，可以熟悉掌握下这个flow。

数字IC后端设计实现之Innovus place报错案例 (IMPSP-9099,9100三种解决方案)最近吾爱IC社区星球会员问到跑place_opt_design时会报错退出的情况。小编今天把这个错误解决办法分享给大家。主要分享三个方法，大家可以根据自己的实际情况来选择。

DDRPHY数字IC后端设计实现系列专题之数字后端floorplan&powerplan设计3.2.3 特殊单元的布局布图阶段除了布置 I/O 单元和宏单元，在 28nm 制程工艺时，还需要处理两种特殊的物理单元，Endcap 和 Tapcell。

数字IC后端设计实现之Innovus自动修复Min Step DRC Violation方案在实际IC后端项目中我们经常会遇到min step的DRC Violation，如下图所示。在咱们IC后端训练营项目中也会遇到这类DRC Violation。这类DRC Violation的本质是出现Metal的Notch，即metal有凹槽。如果是pg net的 Min Step问题，我们可以使用下面的命令来尝试修复。

数字后端零基础入门系列 | Innovus零基础LAB学习Day9Module 16 Wire Editing这个章节的学习目标是学习如何在innovus中手工画线，切断一根线，换孔，更改一条net shape的layer和width等等。这个技能是每个数字IC后端工程师必须具备的。因为项目后期都需要这些技能来修复DRC和做一些手工custom走线。

数字后端零基础入门系列 | Innovus零基础LAB学习Day8###LAB15 Detail Routing for Signal Integrity, Timing, Power and Design for Yield

数字后端零基础入门系列 | Innovus零基础LAB学习Day7###Module 14 时钟树综合###LAB14-1这个章节的主要学习目标如下：1）时钟树综合前的准备工作熟悉

数字后端零基础入门系列 | Innovus零基础LAB学习Day2今天开始更新数字IC后端设计实现中Innovus零基础Lab学习后续内容。数字后端零基础入门系列 | Innovus零基础LAB学习Day1