材料工程

光刻胶增感剂用四甲氧甲基甘脲TMMG四甲氧甲基甘脲分子模型1 化学成分与功能原理1.1 化学成分与结构四甲氧甲基甘脲（TMMG）是一种在光刻胶中扮演增感剂（Sensitizer）角色的关键化学品。它的分子结构同时包含甘脲基和四个甲氧基甲基基团。在光刻过程中，TMMG能有效吸收光能（通常是紫外光），通过光化学反应引发自由基的产生，进而促使光刻胶发生固化反应，形成所需的微细图形。

光刻胶增感剂用全氟丁基磺酸盐全氟丁基磺酸盐作为光刻胶增感剂（光致酸产生剂，PAG）的核心组分，在半导体光刻工艺中起到至关重要的作用。

光刻胶增感剂用正丁胺正丁胺分子结构图引言：正丁胺（n-Butylamine）在光刻胶中作为光增感剂（Photosensitizer）或助剂，主要用于提升光刻胶的感光度、分辨率和成像质量。能有效吸收特定波长紫外线，加速光固化过程，从而满足半导体制造中对图形精确转移的苛刻要求。

光刻胶用二正丁基胺增感剂：1 二正丁基胺的基本特性与重要性二正丁基胺（Di-n-butylamine, DBA）是一种有机胺化合物，它在光刻胶中作为光增感剂（Photosensitizer）使用，能够显著提升光刻胶的感光度和分辨率。其分子式为C₈H₁₉N，常温下为透明液体，密度约为0.767 g/mL（25°C），沸点约为159°C，在水中的溶解度为4.05 g/L（25°C）。它具有碱性，与强氧化剂、常见金属和强酸不相容，储存时需要远离明火和高温，并与氧化剂和酸分开存放。

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基于麻雀搜索算法（SSA）的三维旅行商问题探索基于麻雀搜索算法(SSA)的三维旅行商问题，三维TSP问题旅行商问题（TSP）是一个经典的组合优化问题，在物流、电路设计、机器人路径规划等众多领域都有广泛应用。传统的 TSP 问题通常是在二维平面上考虑的，但在实际场景中，很多问题需要在三维空间里解决，这就引出了三维 TSP 问题。今天，咱们就来聊聊如何用麻雀搜索算法（SSA）解决三维 TSP 问题。

【人工智能与数据驱动方法加速金属材料设计与应用】人工智能通过机器学习和深度学习算法，能够快速分析大量材料数据，预测材料性能。机器学习模型如随机森林、支持向量机等被用于预测材料的力学性能、热学性能和电学性能。深度学习中的卷积神经网络和图神经网络在处理材料微观结构图像和原子级数据方面表现出色。

计算化学与人工智能驱动的MOFs性能预测与筛选技术金属有机框架（MOFs）因其高孔隙率、可调结构和多功能性，在气体存储、分离和催化等领域具有广泛应用。计算化学与人工智能（AI）的结合显著加速了MOFs的性能预测与筛选流程，降低了实验试错成本。

【机器学习在智能水泥基复合材料中的应用领域】机器学习在智能水泥基复合材料中的研究主要集中在以下几个方向：性能预测与优化：通过监督学习算法（如随机森林、支持向量机）预测抗压强度、耐久性等力学性能，减少实验成本。损伤监测与自修复：结合传感器数据，利用深度学习（如卷积神经网络）识别裂缝位置和程度，触发嵌入修复剂的微胶囊响应。材料设计自动化：采用强化学习或生成对抗网络（GAN）探索新型配方组合，加速高性能材料的开发周期。

搞科研的小刘选手

【同济大学主办】第十一届能源资源与环境工程研究进展国际学术会议（ICAESEE 2025）第十一届能源资源与环境工程研究进展国际学术会议（ICAESEE 2025）2025 11th International Conference on Advances in Energy Resources and Environment Engineering

光刻胶丙烯酸酯类树脂的合成：工艺技术路线、影响因素、控制条件和控制参数目录：一、自由基合成法制备工艺及核心控制条件和控制参数二、酯化反应法制备工艺及核心控制条件和控制参数三、聚氨酯丙烯酸酯改性法制备工艺及核心控制条件和控制参数

光刻胶分类与特性：正性胶和负性胶以及SU-8厚胶和AZ 1500 系列光刻胶（上）目录：一、正性光刻胶及其技术进展二、负性光刻胶及其技术进展三、正性和负性胶比对及选择与权衡四、正负性光刻胶归一的可能性

光刻胶分类与特性——g/i线光刻胶及东京应化TP-3000系列胶典型配方（上）目录：一、G线/I线光刻胶技术前沿进展与中国突破二、g线胶和i线胶对DNQ体系性能要求差异三、光刻胶用酚醛树脂生产工艺及前沿工艺技术进展

光刻胶分类与特性：化学增幅i线光刻胶 CAR、金属氧化物光刻胶及EUV光刻胶前沿进展（续）（二) 合成工艺与结构调控1. 精准合成方法溶剂热自组装：在密闭反应釜中控制温度（120–180℃）与压力，引导金属前驱体（如ZrOCl₂）与配体定向组装，形成原子精确团簇（如Zr₆O₄(OMc)₁₀）。

光刻胶分类与特性：KrF/ArF光刻胶及其材料技术进展目录：一、KrF光刻胶种类及其性能特征和应用要求二、ArF光刻胶种类及其性能特征和应用要求三、KrF/ArF胶光学放大原理及其光化学行为过程和控制

光刻胶分类与特性——g/i线光刻胶及东京应化TP-3000系列胶典型配方（下）四、光刻胶用重氮萘醌生产工艺及前沿工艺技术进展（一）重氮萘醌核心生产工艺与参数重氮萘醌是g线/i线光刻胶的核心感光剂，其合成工艺分为磺酰氯制备与酯化反应两大阶段，关键步骤如下：

光刻胶性能核心参数：迪尔参数（A、B、C）一、什么是迪尔参数（A、B、C）光刻胶的迪尔参数（Dill Parameters）是描述其曝光过程中光学特性和化学反应动力学的核心物理量，由F.H. Dill等人于1975年提出，成为光刻工艺建模和优化的基础。这些参数（A、B、C）通过量化光刻胶对光的吸收、漂白行为及反应速率，直接影响光刻的分辨率、线宽均匀性和工艺窗口。

【机器学习在智能水泥基复合材料中的应用与实践】

吉大《Nano Letters》：90秒热冲击合成四位点催化剂，锌空电池实现宽温域高效运行导语锌空气电池的商业化应用受限于阴极氧还原反应动力学缓慢和贵金属催化剂成本高昂。吉林大学蒋青、杨春成团队在Nano Letters上发表创新研究成果，通过90秒超快速热冲击策略，成功构建了一种独特的四位点协同催化剂（FeSA/ZnAC-N-C），实现了氧还原反应性能的突破性提升，为锌空气电池的宽温域应用提供了新材料解决方案。

傲琪人工合成石墨片：破解智能手机散热困境的创新解决方案近年来，智能手机行业面临着一个日益严峻的挑战：设备性能不断提升，但散热技术却跟不上处理器功率增长的步伐。消费者对轻薄机身的追求，更加限制了传统散热方案的应用空间。

阿德莱德大学Nat. Commun.：盐模板策略实现废弃塑料到单原子催化剂的高值转化，推动环境与能源催化应用导语塑料污染治理和资源化利用是当前环境领域面临的重大挑战。近日，阿德莱德大学王少彬教授和段晓光副教授团队在Nature Communications上发表重要研究成果，开发了一种通用的盐模板策略，成功将多种废弃塑料转化为高性能单原子催化剂（SACs），为废塑料的高值化利用和先进催化材料的绿色制备提供了新途径。