摘要
纳米光子学技术已在基础科学与技术的多个领域彻底改变了光-物质相互作用的调控方式。本研究提出内爆制造技术（ImpFab）作为多功能纳米光子学制备平台，其具备最高空间分辨率、材料多样性及全体积控制能力。该技术创新性地将自上而下的光刻工艺与自下而上的水凝胶支架内纳米颗粒组装相结合，通过调节打印参数即可精确调控光学材料特性（如折射率）。我们通过制备三维光子晶体与准晶结构，以及展示具有空间调制单元胞材料特性的光学结构，充分展现了ImpFab的技术潜力。研究结果表明，该技术在制备具有定制化光学功能的纳米结构方面具有显著优势，这对传感、成像及信息处理等应用领域至关重要，并为开发具有空间可控增益与损耗的非厄米光子系统开辟了新途径。
