当工艺进入先进制程，薄膜厚度降到几纳米甚至几埃（Å）级别时（例如先进逻辑芯片中极薄的 High-K 栅极介质层），传统的光谱反射法会完全失效，此时唯有椭偏仪能够胜任。
什么是偏振光？
普通光：电场振动方向随机，各方向均有
线偏振光：电场只在一个平面内振动
椭圆偏振光：电场端点轨迹是椭圆
椭偏仪的名称就来源于椭圆偏振光。
核心物理原理？
传统的光谱反射法（Reflectometry）测量的是光反射回来的强度（亮度）变化，这容易受到光源老化、表面灰尘等干扰。
椭偏仪的绝妙之处在于：它完全不关心光有多亮，它只关心光的"姿态"（偏振状态）发生了什么扭曲。
入射光：椭偏仪打出的是一束经过精确控制的线偏振光。我们可以把这束光分解为两个相互垂直的振动分量：
p 波（平行于入射面的光波）
p 波（平行于入射面的光波）
s 波（垂直于入射面的光波）
当这束光倾斜照射到薄膜表面并反射回来时，薄膜的厚度和折射率会对 p 波和 s 波产生不同程度的反射率衰减和不同程度的相位延迟。
因为 p 波和 s 波的步调不一致了，原本的"线偏振光"在反射后，其电矢量轨迹就会变成一个椭圆形，这就是"椭圆偏振光"（也是椭偏仪名字的由来）。
椭偏仪的两个核心测量？
椭偏仪测量的是反射前后p/s分量的振幅比变化和相位差变化：
Ψ（Psi，0°--90°）：反映振幅比变化
Δ（Delta，0°--360°）：反映相位差变化
这两个参数是椭偏仪的原始测量输出，本身没有直接物理意义，需要通过光学模型换算成膜厚和折射率。
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