MOS管的工作原理

nmos管的简化的原理图

未导通时:

导通时:

Nmos管的导通条件

栅极电压高于源极电压一个阈值(Vgs > Vth)

Nmos的构造

从上图可以看出,衬底为P型半导体,在衬底上挖出两个区域放上N型半导体作为mos管的源极和漏极,然后紫色部分为绝缘层,正是由于这个绝缘层,使得栅极和SS之间形成了一个类似电容的机构。

Nmos的工作原理

先来介绍一下P型衬底,P型衬底是在硅晶体中混入了磷元素,导致+5价的磷和+4价硅在形成8原子稳定状态(八电子稳定结构的驱动:半导体晶体最喜欢的稳定状态,是每个原子周围都有 8 个共享电子(即 4 对共价键)。)时,多出了一个不稳定的电子,这个电子在栅极和ss之间电容的电场力作用下,会移动到靠近正极的区域(栅极),这就使得两个隔离的N型区域之间形成了可以自由移动电子通路,从而就使得两个隔离的N型区域导通了。

引用

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