光刻胶

光刻胶分类与特性：正性胶和负性胶以及SU-8厚胶和AZ 1500 系列光刻胶（下）四、正负性光刻胶归一的可能性（一）技术本质的不可替代性1. 分辨率与图形结构的根本差异负胶短板：显影溶胀（Swelling）导致分辨率难以突破1 μm，而先进制程（5 nm以下）需<0.1 μm精度。

光刻胶丙烯酸酯类树脂的合成：工艺技术路线、影响因素、控制条件和控制参数目录：一、自由基合成法制备工艺及核心控制条件和控制参数二、酯化反应法制备工艺及核心控制条件和控制参数三、聚氨酯丙烯酸酯改性法制备工艺及核心控制条件和控制参数

光刻胶分类与特性：正性胶和负性胶以及SU-8厚胶和AZ 1500 系列光刻胶（上）目录：一、正性光刻胶及其技术进展二、负性光刻胶及其技术进展三、正性和负性胶比对及选择与权衡四、正负性光刻胶归一的可能性

光刻胶分类与特性：化学增幅i线光刻胶 CAR、金属氧化物光刻胶及EUV光刻胶前沿进展（续）（二) 合成工艺与结构调控1. 精准合成方法溶剂热自组装：在密闭反应釜中控制温度（120–180℃）与压力，引导金属前驱体（如ZrOCl₂）与配体定向组装，形成原子精确团簇（如Zr₆O₄(OMc)₁₀）。

光刻胶分类与特性：KrF/ArF光刻胶及其材料技术进展目录：一、KrF光刻胶种类及其性能特征和应用要求二、ArF光刻胶种类及其性能特征和应用要求三、KrF/ArF胶光学放大原理及其光化学行为过程和控制

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