三维显微应变测量系统在电子元器件高低温测试的应用

前言:

在实际应用中,电子元器件会面临较大的温差变化环境。通过温度循环试验,使元器件在短时间内反复承受高低温变化的影响,进而暴露出因材料热胀冷缩性能不匹配、内引线与管芯涂料温度系数不匹配、芯片裂纹、接触不良或制造工艺问题导致的失效现象,并将其剔除。

电子元器件尺寸小,无法使用接触式测量手段,需采用光学非接触式测量方案进行高低温环境条件下的变形行为。为确保产品在高温工况下的可靠性和使用寿命,某通讯设备龙头厂商引入新拓三维XTDIC-MICRO三维显微应变测量系统,以实现非接触、全场、高精度变形监测与分析,助力工程师优化材料选型、散热设计,提升产品可靠性。

电子元器件在高低温形变及其后果

电子元器件在高温环境下,材料热膨胀系数不一致会导致内部应力集中,进而引发以下问题:

热膨胀不匹配:不同材料(如芯片、封装、基板)热膨胀系数差异,导致界面产生剪切应力;

微裂纹与分层:长期高温作用下,封装层与芯片之间可能出现微裂纹,影响电性能;

机械结构失效:封装外壳、引线键合等结构在热循环中反复变形,可能导致疲劳失效;

可靠性下降:高温加速材料老化,缩短产品寿命,影响整机系统稳定性。

这些问题若未在设计阶段被发现,将导致产品在实际使用中发生故障,造成巨大经济损失与安全隐患。

测试目标

评估电子元器件在高温环境下的三维应变分布与变形趋势;

  • 定量分析热循环过程中封装结构的应变演化;

  • 找出潜在的应力集中区域,识别早期失效机制;

  • 优化材料选型与结构设计,提升产品高温可靠性;

  • 为元器件可靠性评估标准制定提供数据支持。

01

元器件测试环境

光学冷热台(温度范围:-190~600℃,可定制),与光学显微DIC系统搭配集成,进行变温原位测试。

新拓三维XTDIC-MICRO三维显微应变系统(微小尺寸材料散斑制备工具、全自动标定转台,实现一键自动化标定)

02

显微DIC系统测试步骤

样品标记:在电子元器件表面制备散斑图案,放置于冷热台,以便于进行高低温环境模拟。

显微DIC系统调节。根据被测试样尺寸大小,体式显微镜选择1倍放大倍率,并对标定板也选择1倍放大,如图所示。

显微DIC系统标定。新拓三维XTDIC-MICRO三维显微应变测量系统采用全自动标定转台,实现一键自动化标定。通过标定相机的内外参数,精确获取被测试样三维数据。

升降温及数据采集。升降温速度10℃/min,加热过程由25℃升至300℃,恒温一段时间后降温至25℃,循环三次,XTDIC-MICRO三维显微应变测量系统按照6秒1张的速度采集图像。

03

显微DIC系统测试结果

在新拓三维DIC软件中框选散斑域,添加种子点,计算试样随温度变化的变形数据,如下分别为25℃、50℃、100℃、200℃、300℃图例。

三维应变分布图:清晰显示元器件试样表面在高温环境下存在显著的应变集中;

热循环应变演化曲线:揭示在高温阶段应变迅速积累,低温阶段部分恢复;

失效机制分析:识别出高温环境下的应变集中区域以及最大应变数据,以防止材料热胀冷缩性能不匹配、内引线与管芯涂料温度系数不匹配、芯片裂纹等问题导致的失效现象。

选取电子元器件试样关键变形位置点,可绘制随时间历程变化的应变曲线:

分析两点之间的距离变化,并可获取两点之间的变形间距变化:

04

对厂商的价值

1、提升产品可靠性

通过早期识别高温变形问题,避免后期批量失效;

2、缩短研发周期

快速获取变形数据,减少试错成本;

3、增强竞争优势

满足行业对高可靠性元器件日益增长的需求;

4、提高测试效率

非接触、自动化测试流程,节省人力与时间。

拓展应用

新拓三维XTDIC-MICRO三维显微应变测量系统,不仅适用于电子元器件冷热变形测试,还可广泛应用于以下领域:

  • 芯片热膨胀/翘曲分析------分析芯片高低温翘曲分布,芯片热膨胀系数。

  • 单晶硅膨胀系数(CTE)测量------不同温度环境下,评估单晶硅CTE系数。

  • PCB板热膨胀测试------分析PCB板在不同温度下微小位移和应变

  • 半导体封装分析------评估封装材料在高温环境下的形变。

  • 5G设备与服务器主板------研究高速电路的热稳定性,优化信号完整性。

  • 新能源汽车电池管理------测量电池热膨胀情况,优化冷却方案。

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