芯片制造

半导体制造中的等离子体是什么？等离子于1879年由William Crookes首次发现，1929年由Irving Langmuir命名为“等离子”。等离子体在芯片制造中的应用十分普遍且重要，可以这么说，没有等离子体，芯片的生产就没有可能。在干法刻蚀，PVD，CVD，晶圆表面改性，光刻中几乎都要涉及到等离子体。那么等离子究竟是什么东西？今天来聊一聊。

半导体制造常见检测之拉曼光谱拉曼光谱是一种非破坏性化学分析技术，可提供有关化学结构、相和多晶型、结晶度和分子相互作用的详细信息。它基于光与材料内化学键的相互作用。

什么是半导体制造中的PVD涂层？PVD涂层是一种环保的真空涂层工艺。由于其出色的耐磨和耐腐蚀性能，PVD常用于赋予零部件更好的性能和绚丽的装饰效果。PVD涂层过程在工业、非工业和化妆品应用中很常见。在现代制造业中，PVD是非常重要的表面处理工艺。

初心不忘产学研

AI 能否自行设计和制造芯片？AI在芯片设计和制造方面的潜力极其巨大，可以从以下几个方面探讨：自动化设计优化：AI可以实现芯片架构的自动化设计和优化，通过机器学习算法探索庞大的设计空间，找到性能、功耗、面积等方面的最优平衡点，大大缩短设计周期。

我是有底线的